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一種光學掩膜及基于光學掩膜的太陽敏感器.pdf

關 鍵 詞:
一種 光學 基于 太陽 敏感
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摘要
申請專利號:

CN201410256172.5

申請日:

2014.06.10

公開號:

CN103983265A

公開日:

2014.08.13

當前法律狀態:

實審

有效性:

審中

法律詳情: 實質審查的生效IPC(主分類):G01C 21/02申請日:20140610|||公開
IPC分類號: G01C21/02; G01C25/00 主分類號: G01C21/02
申請人: 北京航空航天大學
發明人: 樊巧云; 高鑫洋; 張廣軍
地址: 100083 北京市海淀區學院路37號
優先權:
專利代理機構: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 代理人: 張穎玲;王黎延
PDF完整版下載: PDF下載
法律狀態
申請(專利)號:

CN201410256172.5

授權公告號:

|||

法律狀態公告日:

2017.03.01|||2014.08.13

法律狀態類型:

實質審查的生效|||公開

摘要

本發明公開了一種光學掩膜,該光學掩膜采用由兩條平行線及兩條圓弧線構成的圓矩形結構,所述圓矩形結構沿x軸方向及y軸方向均對稱,且帶有V字形狹縫;該光學掩膜用于通過所述V字形狹縫的兩條縫分別濾波并引入第一條太陽光線及第二條太陽光線到線陣圖像傳感器。如此,本發明實施例中的光學掩膜采用圓矩形的結構形式,易于加工和裝配且可以避免旋轉移位;采用V字形狹縫濾波并引入太陽光線,形成的光線交點數量較少,在后續測量姿態角的過程中對應的信息處理算法較為簡單、快速且精確。

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本文標題:一種光學掩膜及基于光學掩膜的太陽敏感器.pdf
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