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一種用于多探頭近場散射成像的幅度校準方法.pdf

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一種 用于 探頭 近場 散射 成像 幅度 校準 方法
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摘要
申請專利號:

CN201410158160.9

申請日:

2014.04.18

公開號:

CN103955008A

公開日:

2014.07.30

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 專利權的轉移 IPC(主分類):G01V 13/00登記生效日:20190301變更事項:專利權人變更前權利人:中國電子科技集團公司第四十一研究所變更后權利人:中電科儀器儀表有限公司變更事項:地址變更前權利人:266000 山東省青島市經濟技術開發區香江路98號變更后權利人:266000 山東省青島市黃島區香江路98號|||授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G01V 13/00申請日:20140418|||公開
IPC分類號: G01V13/00 主分類號: G01V13/00
申請人: 中國電子科技集團公司第四十一研究所
發明人: 杜劉革; 胡大海; 常慶功; 王亞海; 劉偉; 周楊; 顏振
地址: 266000 山東省青島市經濟技術開發區香江路98號
優先權:
專利代理機構: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246 代理人: 龔燮英
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201410158160.9

授權公告號:

|||||||||

法律狀態公告日:

2019.03.22|||2017.01.04|||2014.08.27|||2014.07.30

法律狀態類型:

專利申請權、專利權的轉移|||授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明提供一種用于多探頭近場散射成像的幅度校準方法,步驟1:利用多探頭探測系統測量背景散射數據;步驟2:測量待測目標散射數據;步驟3:進行金屬板散射數據測量;步驟4:對待測目標進行背景對消得到散射數據,其進行成像處理得到成像結果;步驟5:對校準金屬板進行背景對消得到散射數據,利用RMA算法對其進行成像處理得到成像結果;步驟6:利用公式一對成像結果進行校準,得到校準后待測目標的成像結果。采用上述方案,能夠進行微波/毫米波成像的方位向幅度校準,主要用于幅度精度較差的多探頭成像系統,使用簡單校準件直接對成像結果進行校準,提高成像精度。

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