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一種原位高分辨觀察相變材料電致相變過程的透射電鏡薄膜窗口.pdf

摘要
申請專利號:

CN201410140893.X

申請日:

2014.04.10

公開號:

CN103954636A

公開日:

2014.07.30

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G01N 23/04申請日:20140410|||公開
IPC分類號: G01N23/04; G01N1/28; H01J37/26 主分類號: G01N23/04
申請人: 北京工業大學
發明人: 韓曉東; 邵瑞文; 鄭坤; 張韜; 王疆靖; 張澤
地址: 100124 北京市朝陽區平樂園100號
優先權:
專利代理機構: 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203 代理人: 劉萍
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201410140893.X

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2016.10.26|||2014.08.27|||2014.07.30

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

一種高分辨觀察相變材料電致相變過程的透射電鏡薄膜窗口,包括以下步驟:在金屬片上通過激光切割或金屬刻蝕的方法在掩模板上加工出電極的形狀;將掩模板覆蓋在SiNx薄膜窗口上,利用鍍膜機鍍上金屬電極;在所得的電極兩端使用FIB進行電子束沉積,制備出小間距Pt電極;利用聚焦離子束,對電極之間的SiNx薄膜對Pt電極之間的薄膜進行切割加工橋狀結構的樣品平臺;在已經做好電極的SiNx薄膜窗口上,使用磁控濺射鍍上薄膜樣品;用導電膠將透射電鏡通電樣品桿與電極相連進行原位電學實驗。本發明解決了相變材料在器件中不能進行原位觀察相變過程的問題,并避免了常規FIB制備的樣品損傷,降低了樣品的制備難度。

權利要求書

權利要求書
1.  一種高分辨觀察相變材料電致相變過程的透射電鏡薄膜窗口,其特征是制備方法包括以下步驟:
步驟一:用金屬片作為掩模板,在掩模板上加工出電極的形狀,中空部分通過激光切割或金屬刻蝕的方法得到;
步驟二:將掩模板覆蓋在Si3N4薄膜窗口上,利用鍍膜機鍍上金屬電極,然后將掩模板取下獲得兩個電極;
步驟三:在所得的兩個電極之間使用聚焦離子束FIB進行電子束沉積,制備出兩個Pt電極;然后利用FIB對兩個電極之間的Si3N4薄膜以及對兩個Pt電極之間的薄膜進行切割加工橋狀結構的樣品平臺;
步驟四:在上述樣品平臺使用磁控濺射鍍上薄膜樣品;用導電膠將透射電鏡通電樣品桿與電極相連進行原位電學實驗。

2.  根據權利要求1所述的高分辨觀察相變材料電致相變過程的透射電鏡薄膜窗口,其特征是:所述步驟一掩模板材料為金、鉬、銅、鐵、鋁或鎳。

3.  根據權利要求1所述的高分辨觀察相變材料電致相變過程的透射電鏡薄膜窗口,其特征是步驟二中兩個電極間距為10~100μm。

4.  根據權利要求1所述的高分辨觀察相變材料電致相變過程的透射電鏡薄膜窗口,其特征是步驟三中兩個Pt電極間距為0.1~10μm。

5.  根據權利要求1所述的高分辨觀察相變材料電致相變過程的透射電鏡薄膜窗口,其特征是橋狀結構的樣品平臺寬度為10~1000nm。

關 鍵 詞:
一種 原位 分辨 觀察 相變 材料 過程 透射 薄膜 窗口
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