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一種釩硅合金靶材及其制備方法.pdf

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一種 合金 及其 制備 方法
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摘要
申請專利號:

CN201510315291.8

申請日:

2015.06.10

公開號:

CN104894448A

公開日:

2015.09.09

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||著錄事項變更IPC(主分類):C22C 27/02變更事項:申請人變更前:深圳市威勒達科技開發有限公司變更后:深圳市威勒科技股份有限公司變更事項:地址變更前:518000 廣東省深圳市福田區新洲南路金享樓2棟6樓南半層變更后:518000 廣東省深圳市福田區深南大道1006號深圳國際創新中心C座15樓|||實質審查的生效IPC(主分類):C22C 27/02申請日:20150610|||公開
IPC分類號: C22C27/02; C22C1/05; B22F3/115 主分類號: C22C27/02
申請人: 深圳市威勒達科技開發有限公司
發明人: 徐玄; 顧進躍; 顧偉華; 李巧梅; 馬輝
地址: 518000廣東省深圳市福田區新洲南路金享樓2棟6樓南半層
優先權:
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201510315291.8

授權公告號:

|||||||||

法律狀態公告日:

2018.07.06|||2017.08.25|||2017.06.23|||2015.09.09

法律狀態類型:

授權|||著錄事項變更|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明提供了一種釩硅合金靶材及其制備方法,該靶材由釩粉、硅粉及粘結劑制作組成,其中釩粉與硅粉的質量配比為19:1~3:2,所述釩粉與硅粉的純度大于99.5%。該制備方法包括以下步驟:按比例稱取釩粉與硅粉,并將兩者充分混勻;將混勻的釩粉和硅粉加入粘結劑進一步混勻,并處理得到干燥的釩硅粉與粘結劑的復合粉末材料;將步驟(2)的復合粉末材料進行等離子噴涂操作;取下噴涂所得的構件,并對所述構件進行處理得到成品。本發明的釩硅合金靶材均勻性好,穩定性高。本發明的制備方法采用等離子噴涂方式簡單易行,無需模具設計和昂貴的壓制設備,操作方便,制備所得的靶材濺射性能優良,雜質少,適用于光學鍍膜。

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