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由閥金屬和閥金屬低氧化物組成的納米結構及其制備方法.pdf

關 鍵 詞:
金屬 氧化物 組成 納米 結構 及其 制備 方法
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摘要
申請專利號:

CN201510198881.7

申請日:

2008.07.23

公開號:

CN104889381A

公開日:

2015.09.09

當前法律狀態:

撤回

有效性:

無權

法律詳情: 發明專利申請公布后的視為撤回IPC(主分類):B22F 1/00申請公布日:20150909|||實質審查的生效IPC(主分類):B22F 1/00申請日:20080723|||公開
IPC分類號: B22F1/00; B22F9/22 主分類號: B22F1/00
申請人: H.C.施塔克有限公司
發明人: G·吉勒; C·施尼特; H·布魯姆; H·哈斯; R·穆勒; M·波貝斯
地址: 德國高斯拉
優先權: 102007038581.3 2007.08.16 DE; 102007057761.5 2007.11.30 DE
專利代理機構: 上海專利商標事務所有限公司31100 代理人: 朱黎明
PDF完整版下載: PDF下載
法律狀態
申請(專利)號:

CN201510198881.7

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2017.06.30|||2015.10.07|||2015.09.09

法律狀態類型:

發明專利申請公布后的視為撤回|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明涉及由閥金屬和閥金屬低氧化物組成的納米結構及其制備方法。具體地說,描述了一種新型帶狀或板狀閥金屬和閥金屬氧化物結構,其具有5-100nm的橫向尺寸并且具有納米片層結構,其制造方法包括在足以進行還原的溫度下,使粉末狀的閥金屬的氧化物與還原性金屬蒸氣接觸,形成片層納米結構,其特征在于,在片層結構發生熱分解和轉化為粗化結構之前,凍結被還原的閥金屬氧化物。

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本文標題:由閥金屬和閥金屬低氧化物組成的納米結構及其制備方法.pdf
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