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超紫外線光刻投影光學系統和相關方法.pdf

關 鍵 詞:
紫外線 光刻 投影 光學系統 相關 方法
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摘要
申請專利號:

CN201410449045.7

申請日:

2014.09.04

公開號:

CN104914678A

公開日:

2015.09.16

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G03F 7/20申請日:20140904|||公開
IPC分類號: G03F7/20 主分類號: G03F7/20
申請人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
發明人: 游信勝; 盧彥丞; 嚴濤南
地址: 中國臺灣新竹
優先權: 14/203,348 2014.03.10 US
專利代理機構: 北京德恒律治知識產權代理有限公司11409 代理人: 章社杲; 孫征
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201410449045.7

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2017.10.20|||2015.10.14|||2015.09.16

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明提供了一種超紫外線光刻系統。該超紫外線光刻系統包括將掩模的圖案成像到晶圓上的投影光學系統。該投影光學系統包括兩個到五個平面鏡。該兩個到五個平面鏡設計并配置為具有小于約0.50的數值孔徑,晶圓上的圖像域尺寸大于或等于約20mm,并且具有包括中心遮攔的光瞳平面。在實例中,中心遮攔具有的半徑小于或等于光瞳平面的半徑的50%。在實例中,中心遮攔具有的面積小于或等于光瞳平面的面積的25%。

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本文標題:超紫外線光刻投影光學系統和相關方法.pdf
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