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反應性化合物.pdf

摘要
申請專利號:

CN201480005243.2

申請日:

2014.01.17

公開號:

CN104918979A

公開日:

2015.09.16

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):C08G 61/12申請日:20140117|||公開
IPC分類號: C08G61/12; C07F5/04; H01L51/42 主分類號: C08G61/12
申請人: 住友化學株式會社
發明人: 大家健一郎; 吉村研
地址: 日本國東京都
優先權: 2013-008096 2013.01.21 JP; 2013-238580 2013.11.19 JP
專利代理機構: 中科專利商標代理有限責任公司11021 代理人: 葛凡
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201480005243.2

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2017.03.08|||2015.10.14|||2015.09.16

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

一種下述式(I)所表示的反應性化合物。式(I)中,Z表示2價的基團。Y可以相同也可以不同,表示具有1個以上的羥基的1價的硼酸酯殘基,Ar1和Ar2可以相同也可以不同,表示3價的芳香族烴基或3價的雜環基。

權利要求書

權利要求書
1.  一種下述式(I)所表示的反應性化合物,

式(I)中,Z表示2價的基團,Y可以相同也可以不同,表示具有1個以上的羥基的1價的硼酸酯殘基,Ar1和Ar2可以相同也可以不同,表示3價的芳香族烴基或3價的雜環基。

2.  根據權利要求1所述的反應性化合物,其中,
Ar1和Ar2為3價的雜環基。

3.  根據權利要求1或2所述的反應性化合物,其中,
Y為下述式(Y’-1)、(Y’-2)或(Y’-3)所表示的基團,

式(Y’-1)、(Y’-2)和(Y’-3)中,R’為下述式(R’-1)、(R’-2)或(R’-3)所表示的取代基,R”表示氫原子、甲基或乙基,n和m分別表示整數,滿足n≥1、m≥0、n+m≤4,

式(R’-1)、(R’-2)和(R’-3)中,R”’相同或不同,表示氫原子、甲基或乙基。

4.  根據權利要求1~3中任一項所述的反應性化合物,其中,
Z為下述式(Z-1)~式(Z-7)中任一項所表示的基團,

式(Z-1)~式(Z-7)中,R相同或不同,表示氫原子、鹵原子或取代基。

5.  根據權利要求1~4中任一項所述的反應性化合物,其中,
式(I)所表示的反應性化合物為下述式(II)所表示的化合物,

式(II)中,Z表示與上述相同的意思,Y表示與上述相同的意思。

6.  根據權利要求1~5中任一項所述的反應性化合物,其中,
Y為下述式(Y-1)、(Y-2)或(Y-3)所表示的基團,


7.  根據權利要求1~6中任一項所述的反應性化合物,其中,
式(I)所表示的反應性化合物為下述式(III-1)或(III-2)所表示的化合物,

式(III-1)和式(III-2)中,Z表示與上述相同的意思。

8.  根據權利要求1~7中任一項所述的反應性化合物,其中,
式(I)所表示的反應性化合物為下述式(IV-1)或式(IV-2)所表示的化合物,

式(IV-1)和式(IV-2)中,R””相同或不同,表示氫原子或取代基。

9.  一種高分子化合物的制造方法,其是含有下述式(VI)所表示的構成單元和下述式(VII)所表示的構成單元的高分子化合物的制造方法,

-Ar3-
                   (VII)
其中,使權利要求1~8中任一項所述的反應性化合物與下述式(V)所表示的化合物反應,
X-Ar3-X
                    (V)
式(VI)中,Ar1、Ar2和Z表示與上述相同的意思,式(VII)中,Ar3表示2價的芳香族烴基或2價的雜環基,式(V)中,Ar3表示與上述相同的意思,X相同或不同,表示鹵原子。

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