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形成用于電容式觸摸傳感器的電極結構的方法.pdf

摘要
申請專利號:

CN201480009362.5

申請日:

2014.02.14

公開號:

CN105073332A

公開日:

2015.11.18

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):B23K 26/36申請日:20140214|||公開
IPC分類號: B23K26/36; B23K26/40; B23K26/06; G06F3/044 主分類號: B23K26/36
申請人: 萬佳雷射有限公司
發明人: 卡米洛·普列托銳奧; 陳旭鈞
地址: 英國牛津
優先權: 1303085.3 2013.02.21 GB
專利代理機構: 北京派特恩知識產權代理有限公司11270 代理人: 孟桂超; 張穎玲
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201480009362.5

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2018.05.04|||2016.03.09|||2015.11.18

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

一種使用脈沖式固體激光器通過激光直寫刻劃工藝在透明導電層中形成用于電容式觸摸傳感器的電極結構的方法,其中,透明導電層位于透明非導電層上,透明非導電層位于彩色濾光片層上,基板處的激光波長、脈沖長度和光束剖面選擇如下:在257nm到266nm范圍內的波長,在50fs到50ns范圍內的脈沖長度,以及最大值(Emax)與最小值(Emin)之間的功率密度或者能量密度的均勻性小于10%的平頂光束剖面,其中均勻性定義為(Emax–Emin)/(Emax+Emin)。因此,可以在透明導電層中形成凹槽,以使每個凹槽的相對兩側上的透明導電層的區域電隔離,同時基本上不損害透明導電層之下的透明非導電層或者彩色濾光片層。

權利要求書

1.一種使用脈沖式固體激光器通過激光直寫刻劃工藝在透明導電層中形成
用于電容式觸摸傳感器的電極結構的方法,其中,所述透明導電層位于透明非
導電層上,所述透明非導電層位于彩色濾光片層上,基板處的激光波長、脈沖
長度和光束剖面選擇如下:
i)在257nm到266nm范圍內的波長
ii)在50fs到50ns范圍內的脈沖長度
iii)最大值(Emax)與最小值(Emin)之間的功率密度或者能量密度的
均勻性小于10%的平頂光束剖面,其中均勻性定義為(Emax–Emin)/(Emax+
Emin),
使得在所述透明導電層中形成凹槽,以使每個凹槽的相對兩側上的所述透明導
電層的區域電隔離,同時基本上不損害所述透明導電層之下的所述透明非導電
層或者所述彩色濾光片層。
2.根據權利要求1所述的方法,其中,所述脈沖長度為50ps或更小。
3.根據任一前述權利要求所述的方法,其中,所述激光波長為257.5nm
或者266nm。
4.根據權利要求1、2或者3所述的方法,其中,Emax不超過1.3xEabl,
其中Eabl為用于燒蝕所述透明導電層的閾值能量密度。
5.根據任一前述權利要求所述的方法,其中,所述電極結構包括發射電極
結構和接收電極結構。
6.根據任一前述權利要求所述的方法,其中,所述觸摸傳感器包括:透明
基板、在所述透明基板上設置的所述彩色濾光片層、在所述RGB彩色濾光片層
之上形成透明平整化層的所述非導電層、以及在所述平整化層之上設置的所述
透明導電層。
7.根據任一前述權利要求所述的方法,其中,所述觸摸傳感器被用于形成
組件的一部分,所述組件具有位于所述傳感器之上的透明蓋和位于所述傳感器
下面的顯示模塊。
8.根據任一前述權利要求所述的方法,其中,所述激光束被布置成在所述
透明導電層的第一子區域之上進行掃描,然后步進到所述透明導電層的另一子
區域并且在該區域之上進行掃描,重復這種處理直到所需的區域都被掃描完。
9.根據權利要求8所述的方法,其中,待形成的所述傳感器包括多個所述
子區域。
10.一種基本上如上文參照附圖中的圖6-11中的一幅或多幅圖所描述的、
在透明導電層中形成用于電容式觸摸傳感器的電極結構的方法,其中,所述透
明導電層位于透明非導電層上,所述透明非導電層位于彩色濾光片層上。
11.一種被布置成實現根據任一前述權利要求所述的方法的裝置,所述裝
置包括脈沖式激光源,所述脈沖式激光源被布置成在透明導電層中對用于電容
式觸摸傳感器的電極結構進行激光直寫刻劃,其中,所述透明導電層位于透明
非導電層上,所述透明非導電層位于彩色濾光片層上,所述激光源被布置成在
基板處提供如下的波長、脈沖長度和光束剖面:
i)在257nm到266nm范圍內的波長
ii)在50fs到50ns范圍內的脈沖長度
iii)最大值(Emax)與最小值(Emin)之間的功率密度或者能量密度的
均勻性小于10%的平頂光束剖面,其中均勻性定義為(Emax–Emin)/(Emax+
Emin)。
12.根據權利要求11所述的裝置,其中,所述脈沖長度為50ps或更小。
13.根據權利要求11所述的裝置,其中,所述激光源被布置成在所述透明
導電層之上掃描以便在所述透明導電層中形成一系列凹槽。
14.根據權利要求11所述的裝置,所述裝置包括鏡子和平場聚焦透鏡,所
述鏡子被布置成實現所述掃描,所述平場聚焦透鏡用于將所述激光束聚焦到所
述透明導電層上。
15.根據權利要求11-14中任一項所述的裝置,所述裝置被布置成實現步
進和掃描處理以在所述透明導電層的多個子區域之上進行激光掃描。
16.根據權利要求11-15中任一項所述的裝置,其中,所述激光束被布置
成穿過具有基本上小于所述激光束的直徑的孔,以使所述激光束具有基本上平
頂的剖面。
17.根據權利要求11-15中任一項所述的裝置,其中,所述激光束穿過衍
射光學元件,所述衍射光學元件被布置成使所述激光束具有基本上平頂的剖面。
18.根據權利要求11-17中任一項所述的裝置,所述裝置用于實現根據權
利要求1-10中任一項所述的方法。

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形成 用于 電容 觸摸 傳感器 電極 結構 方法
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