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步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置.pdf

摘要
申請專利號:

CN201510428824.3

申請日:

2015.07.20

公開號:

CN105068380A

公開日:

2015.11.18

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G03F 7/20申請日:20150720|||公開
IPC分類號: G03F7/20 主分類號: G03F7/20
申請人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
發明人: 林棟梁; 馬興華; 任冰強; 陳明; 黃惠杰
地址: 201800上海市嘉定區上海市800-211郵政信箱
優先權:
專利代理機構: 上海新天專利代理有限公司31213 代理人: 張澤純; 張寧展
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201510428824.3

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2017.04.05|||2015.12.16|||2015.11.18

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

一種步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置,特點在于該裝置包括狹縫基框、上組件、下組件、Y向平衡質量系統、右組件、左組件和X向平衡質量系統,本發明在不影響刀口的運動和定位的同時,可完全消除振動力。

權利要求書

1.一種步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置,特征在于該裝置包括
狹縫基框(1)、上組件(2)、下組件(3)、Y向平衡質量系統(4)、右組件(5)、左
組件(6)和X向平衡質量系統(7):
所述的狹縫基框(1)由沿水平方向的第一x向支架(1g)的兩端分別與沿豎直
方向的第一Y向支架(1a)、第三Y向支架(1d)構成Π形結構,在第一Y向支架
(1a)和第三Y向支架(1d)之間設有與第一x向支架(1g)平行的相近的第二x
向支架(1f),在第一Y向支架(1a)、第三Y向支架(1d)的外側具有并與之相連且
平行的第二Y向支架(1b)、第四Y向支架(1e),所述的第二Y向支架(1b)和第
四Y向支架(1e)關于狹縫基框(1)的中垂面對稱,在第三Y向支架(1d)內側還
有兩根x向支桿(1c)和第二x向支架(1f),在所述的第一x向支架(1g)的內側
面設有x向光柵尺(15),在所述的第二Y向支架(1b)的內側面設有Y向光柵尺(11);
所述的X向平衡質量系統(7)包括X向平衡質量塊(71)和第三滑塊(73a)
和第四滑塊(73b),所述的第三滑塊(73a)和第四滑塊(73b)套在所述的第二X支
架(1f)上,所述的X向平衡質量塊(71)的兩端分別與所述的左滑塊(61)和右滑
塊(51)相連并與所述的第二Y向支架(1b)平行,在所述的X向平衡質量塊(71)
的兩端與所述的第一Y支架(1a)和第三Y支架(1e)之間設有完全相同的左拉伸
彈簧(14a)和右拉伸彈簧(14b),在所述的X向平衡質量塊(71)上設有驅動電機
定子(72);
所述的左組件(6)包括左刀片(65)、左電機動子(63)、左滑塊(61)、左光柵
讀數頭(64)和左連桿(62),所述的左滑塊(61)套在第二x向支架(1f)上,所
述的左光柵讀數頭(64)、左滑塊(61)、左電機動子(63)和左刀片(65)通過所述
的左連桿(62)依次相接在一起,所述的左滑塊(61)套在第二x向支架(1f)上,
所述的左光柵讀數頭(64)位于所述的左連桿(62)的上端并指向所述的x向光柵尺
(15),所述的左電機動子(63)位于所述的驅動電機定子(72)上,所述的左刀片
(65)在所述的左連桿(62)的下端,所述的左組件(6)在所述的左電機動子(63)
的驅動下通過所述的左滑塊(61)沿所述的X支架(1f)在水平方向移動;
所述的右組件(5)由右刀片(55)、右電機動子(53)、右滑塊(51)和右光柵
讀數頭(54)和右連桿(52)構成,所述的右滑塊(51)套在所述的第二X支架(1f)
上,所述的右光柵讀數頭(54)位于所述的右連桿(52)的上端并指向所述的x向光
柵尺(15),所述的右電機動子(53)位于所述的驅動電機定子(72)上,所述的右
刀片(55)在所述的右連桿(52)的下端,所述的右組件(5)在所述的右電機動子
(53)的驅動下通過所述的右滑塊(51)沿所述的X支架(1f)在水平方向移動;
所述的Y向平衡質量系統(4)包括Y向平衡質量塊(43)、y向驅動電機定子(42)、
配重電機動子(44)、第一Y向滑塊(41a)、第二Y向滑塊(41b)和第三Y向滑塊
(41c),所述的Y向平衡質量塊(43)呈準方框形結構,該方框形的左上角、左下角
和右邊中間各延伸一支桿并分別連接所述的第一Y向滑塊(41a)、第二Y向滑塊(41b)
和第三Y向滑塊(41c),所述的第一Y向滑塊(41a)和第二Y向滑塊(41b)位于
第一Y支架(1a)上可移動,所述的第三Y向滑塊(41c)位于第四Y支架(1e)上
可移動,所述的Y向平衡質量塊(43)經所述的第三Y向滑塊(41c)延伸的支桿的
末端連接所述的配重電機動子(44),該配重電機動子(44)位于與豎直安裝在第三
Y支架(1d)上的配重電機定子(13)上,所述的Y向平衡質量塊(43)右邊中間支
桿和狹縫基框(1)的兩支桿(1c)之間布設有兩個完全相同的第一y向拉伸彈簧(12a)
和第二y向拉伸彈簧(12b);所述的配重電機動子(44)和配重電機定子(13)之間
產生豎直向上恒定的電磁力,抵消Y向平衡質量系統(4)、上組件(2)和下組件(3)的
重力;
所述的上組件(2)由上刀片(25)、上電機動子(23)、上滑塊(21)和上連桿
(22)構成,所述的上刀片(25)、上電機動子(23)、上滑塊(21)和上光柵讀數頭
(24)均固裝在所述的上連桿(22)上,所述的上光柵讀數頭(24)位于所述的上連
桿(22)的左端并指向所述的Y向光柵尺(11),所述的上滑塊(21)位于所述的第
一Y支架(1a)上可滑動,所述的上電機動子(23)位于所述的y向驅動電機定子(42)
上,所述的上刀片(25)位于所述的上連桿(22)的另一端;
所述的下組件(3)由下刀片(35)、下電機動子(33)、下滑塊(31)、下光柵讀數
頭(34)和下連桿(32)構成,所述的下刀片(35)、下電機動子(33)、下滑塊(31)
和下光柵讀數頭(34)均固裝在下連桿(32)上,所述的下光柵讀數頭(34)位于所述
的下連桿(32)的左端并指向所述的Y向光柵尺(11),所述的下滑塊(31)位于所
述的第一Y支架(1a)上可滑動,所述的下電機動子(33)位于所述的y向驅動電機
定子(42)上,所述的下刀片(35)位于所述的下連桿(32)的另一端;所述的下刀
片(35)、上刀片(25)、左刀片(65)和右刀片(55)構成掃描狹縫;所述的上組件
(2)和下組件(3)分別利用上電機動子(23)和下電機動子(33)與y向驅動電機定子
(42)間的電磁力驅動上刀片(25)和下刀片(35)在Y向產生運動,所述的右組件
(5)、左組件(6)分別利用左電機動子(63)和右電機動子(53)與x向驅動電機
定子(72)間的電磁力驅動右刀片(55)和左刀片(65)在x向產生運動。
2.根據權利要求1所述的步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置,特
征在于所述的X向平衡質量塊(71)的質量約為左組件6和右組件5質量之和的10
倍。
3.根據權利要求1所述的步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置,特
征在于所述的左拉伸彈簧(14a)和右拉伸彈簧(14b)的彈性系數小于0.1N/mm,所
述的左拉伸彈簧(14a)和右拉伸彈簧(14b)的合作用力使X向平衡質量塊(71)回
到水平方向的中間位置。
4.根據權利要求1所述的步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置,特
征在于所述的第一y向拉伸彈簧(12a)和第二y向拉伸彈簧(12b)的彈性系數小于
0.1N/mm的值,所述的第一y向拉伸彈簧(12a)和第二y向拉伸彈簧(12b)的合作
用力使y向平衡質量塊(43)回到豎直方向的中間位置。
5.根據權利要求1所述的步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置,特
征在于所述的Y向平衡質量塊(43)的質量為上組件(2)和下組件(3)質量之和的10倍。

說明書

步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置

技術領域

本發明涉及半導體設備制造技術領域,尤其涉及一種步進掃描光刻機的自消除振
動力的掃描狹縫裝置。

技術背景

大規模集成電路生產是現代微電子技術的核心,而半導體光刻設備是發展集成電
路的基礎。步進掃描光刻機利用掃描狹縫限定掩模面照明視場大小及其中心位置,并
通過與掩模臺/硅片臺的同步運動,使物鏡視場光強分布輪廓在硅片面的光強形成積
分,完成對硅片的曝光。在曝光視場的起始與終止位置處,掃描狹縫可以避免位于曝
光視場之外的部分照明視場照射到相鄰曝光場上,保證曝光場以外的區域不受成像光
束的影響。

產率是半導體光刻設備三大性能參數之一。為了提高產率,需要提高步進掃描光
刻機的掃描速度。由于掃描狹縫裝置的振動力直接作用在光刻機主框架上,因此當掃
描速度提高后,掃描過程中產生的振動力對光刻機整機框架也將產生較大影響。

在先技術CN103163738A介紹了一種用于補償照明掃描向刀口驅動反力的裝
置,但此裝置通過支撐簧片連接安裝座和照明刀口安裝支架,刀口驅動反力實際上仍
能通過支撐簧片傳遞到安裝座上,因此該裝置無法完全消除由于刀口驅動反力產生的
振動力的影響,且支撐簧片變形將導致刀口位置發生變化,影響刀口的定位。

現有技術欲解決在不影響刀口運動和定位的基礎上,實現振動力的完全自消除。

發明內容

本發明目的在于克服在先技術的缺點,提供一種步進掃描光刻機的自消除振動力
的掃描狹縫裝置,該裝置在不影響刀口的運動和定位的同時,可完全消除振動力。

為解決上述技術問題,本發明的技術解決方案如下:

一種步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置,特點在于該裝置包括狹縫
基框、上組件、下組件、Y向平衡質量系統、右組件、左組件和X向平衡質量系統:

所述的狹縫基框由沿水平方向的第一x向支架的兩端分別與沿豎直方向的第一Y
向支架、第三Y向支架構成Π形結構,在第一Y向支架和第三Y向支架之間設有與
第一x向支架平行且相近的第二x向支架,在第一Y向支架、第三Y向支架的外側
具有并與之相連且平行的第二Y向支架、第四Y向支架,所述的第二Y向支架和第
四Y向支架關于狹縫基框的中垂面對稱,在第三Y向支架內側還有兩根x向支桿和
第二x向支架,在所述的第一x向支架的內側面設有x向光柵尺,在所述的第二Y向
支架的內側面設有Y向光柵尺;

所述的X向平衡質量系統包括X向平衡質量塊和第三滑塊和第四滑塊,所述的
第三滑塊和第四滑塊套在所述的第二X支架上,所述的X向平衡質量塊的兩端分別
與所述的左滑塊和右滑塊相連并與所述的第二Y向支架平行,在所述的X向平衡質
量塊的兩端與所述的第一Y支架和第三Y支架之間設有完全相同的左拉伸彈簧和右
拉伸彈簧,在所述的X向平衡質量塊上設有驅動電機定子;

所述的左組件包括左刀片、左電機動子、左滑塊、左光柵讀數頭和左連桿,所述
的左滑塊套在第二x向支架上,所述的左光柵讀數頭、左滑塊、左電機動子和左刀片
通過所述的左連桿依次相接在一起,所述的左滑塊套在第二x向支架上,所述的左光
柵讀數頭位于所述的左連桿的上端并指向所述的x向光柵尺,所述的左電機動子位于
所述的驅動電機定子上,所述的左刀片在所述的左連桿的下端,所述的左組件在所述
的左電機動子的驅動下通過所述的左滑塊沿所述的X支架在水平方向移動;

所述的右組件由右刀片、右電機動子、右滑塊和右光柵讀數頭和右連桿構成,所
述的右滑塊套在所述的第二X支架上,所述的右光柵讀數頭位于所述的右連桿的上端
并指向所述的x向光柵尺,所述的右電機動子位于所述的驅動電機定子上,所述的右
刀片在所述的右連桿的下端,所述的右組件在所述的右電機動子的驅動下通過所述的
右滑塊沿所述的X支架在水平方向移動;

所述的Y向平衡質量系統包括Y向平衡質量塊、y向驅動電機定子、配重電機動
子、第一Y向滑塊、第二Y向滑塊和第三Y向滑塊,所述的Y向平衡質量塊呈準方
框形結構,該方框形的左上角、左下角和右邊中間各延伸一支桿并分別連接所述的第
一Y向滑塊、第二Y向滑塊和第三Y向滑塊,所述的第一Y向滑塊和第二Y向滑塊
位于第一Y支架上可移動,所述的第三Y向滑塊位于第四Y支架上可移動,所述的
Y向平衡質量塊經所述的第三Y向滑塊延伸的支桿的末端連接所述的配重電機動子,
該配重電機動子位于與豎直安裝在第三Y支架上的配重電機定子上,所述的Y向平
衡質量塊右邊中間支桿和狹縫基框的兩支桿之間布設有兩個完全相同的第一y向拉伸
彈簧和第二y向拉伸彈簧;所述的配重電機動子和配重電機定子之間產生豎直向上恒
定的電磁力,抵消Y向平衡質量系統、上組件(2)和下組件的重力;

所述的上組件由上刀片、上電機動子、上滑塊和上連桿構成,所述的上刀片、上
電機動子、上滑塊和上光柵讀數頭均固裝在所述的上連桿上,所述的上光柵讀數頭位
于所述的上連桿的左端并指向所述的Y向光柵尺,所述的上滑塊位于所述的第一Y
支架上可滑動,所述的上電機動子位于所述的y向驅動電機定子上,所述的上刀片位
于所述的上連桿的另一端;

所述的下組件由下刀片、下電機動子、下滑塊、下光柵讀數頭和下連桿構成,所
述的下刀片、下電機動子、下滑塊和下光柵讀數頭均固裝在下連桿上,所述的下光柵
讀數頭位于所述的下連桿的左端并指向所述的Y向光柵尺,所述的下滑塊位于所述的
第一Y支架上可滑動,所述的下電機動子位于所述的y向驅動電機定子上,所述的下
刀片位于所述的下連桿的右端;所述的下刀片、上刀片、左刀片和右刀片構成掃描狹
縫;所述的上組件和下組件分別利用上電機動子和下電機動子與y向驅動電機定子間
的電磁力驅動上刀片和下刀片在Y向產生運動,所述的右組件、左組件分別利用左電
機動子和右電機動子與x向驅動電機定子間的電磁力驅動右刀片和左刀片在x向產生
運動。

所述的X向平衡質量塊的質量約為左組件6和右組件5質量之和的10倍。

所述的左拉伸彈簧和右拉伸彈簧的彈性系數小于0.1N/mm,所述的左拉伸彈簧和
右拉伸彈簧的合作用力使X向平衡質量塊回到水平方向的中間位置。

所述的第一y向拉伸彈簧和第二y向拉伸彈簧的彈性系數小于0.1N/mm的值,
所述的第一y向拉伸彈簧和第二y向拉伸彈簧的合作用力使y向平衡質量塊回到豎直
方向的中間位置。

所述的Y向平衡質量塊的質量為上組件和下組件質量之和的10倍。

在水平方向上,X向平衡質量系統的左右兩邊與狹縫基框的Y支架之間連接一對
相同的拉伸彈簧;在豎直方向上,Y向平衡質量系統通過一對相同的拉伸彈簧與狹縫
基框的支桿連接。所述的配重電機的定子固定在狹縫基框的Y支架上,動子沿豎直方
向固定在Y向平衡質量系統上。

所述的左右兩個組件均包括沿水平方向運動的刀片,沿水平方向驅動的組件電
機,沿水平方向運動的組件滑塊,沿水平方向運動的光柵讀數頭以及X向組件連桿,
該沿水平方向驅動的組件電機包括水平安裝在X向平衡質量系統上的定子和固定在
X向組件連桿上沿水平方向運動的動子,所述的上下兩個組件均包括沿豎直方向運動
的刀片,沿豎直方向驅動的組件電機,沿豎直方向運動的組件滑塊,沿豎直方向運動
的光柵讀數頭以及Y向組件連桿,該沿豎直方向驅動的組件電機包括豎直安裝在Y
向平衡質量系統上的定子和固定在Y向組件連桿上沿豎直方向運動的動子。還包括沿
X向平行的光柵尺以及沿Y向平行的光柵尺,該沿X向平行的光柵尺位于狹縫基框
的X向支架上,該沿Y向平行的光柵尺位于狹縫基框的Y向支架上。

所述的X向平衡質量系統還包括X向平衡質量塊和沿水平方向運動的滑塊。所
述的Y向平衡質量系統還包括Y向平衡質量塊和沿豎直方向運動的滑塊。

本發明利用X向平衡質量系統和Y向平衡質量系統的作用,給出一種有效抵消
刀片運動過程中產生的電機反向作用力的裝置。與先技術相比,該裝置不僅在X向和
Y向均實現振動力的完全自消除,同時能夠保持刀口的運動和定位性能不變。

附圖說明

圖1為本發明所涉及的用于步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置結構
示意圖;

圖2為本發明所涉及的步進掃描光刻機的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施實例,對本發明作詳細闡述:

請參閱圖2,圖2為本發明所涉及的步進掃描光刻機的結構示意圖,其中垂直于
紙面的方向為X向,豎直向下的方向為Y向,且X向為非掃描方向,Y向為掃描方
向。照明系統102將掃描狹縫101中的視場輪廓成像到置于掩模臺109上的掩模板上,
物鏡108將掩模板圖形投影到置于硅片臺106上的硅片表面,進而對硅片進行曝光。
物鏡108利用主動隔振系統107連接到光刻機主框架103上,照明系統102以及掩模
臺109直接固定在光刻機主框架103上,光刻機主框架103與地基105之間通過主動
隔振器104隔離環境振動。光刻機在步進掃描工作過程中,掃描狹縫101中Y向刀片
與掩模臺109以及硅片臺106始終保持同步運動,X向刀片作步進運動。本發明自消
除振動力的掃描狹縫裝置101,能夠抵消刀片在運動過程中由于電機反向作用力產生
的振動力,同時又不影響刀口的運動和定位。

如圖1所示,本發明掃描狹縫裝置主要包括狹縫基框1,左組件6和右組件5,X
向平衡質量系統7,上組件2和下組件3和Y向平衡質量系統4。

狹縫基框1包括沿水平方向的X支架1f、1g和支桿1c以及沿豎直方向的第一Y
支架1a、第二Y支架1b、第三Y支架1d、第四Y支架1e。左組件6由左刀片65,
左電機動子63、左滑塊61、左光柵讀數頭64和左連桿62構成。左刀片65、左電機
動子63、左滑塊61和左光柵讀數頭64均固裝在左連桿62上,左組件6整體通過左
滑塊61沿著X支架1f在水平方向自由移動。右組件5由右刀片55、右電機動子53、
右滑塊51、右光柵讀數頭54和右連桿52構成。右刀片55、右電機動子53、右滑塊
51、右光柵讀數頭54均固裝在右、連桿52上,右組件5整體通過右滑塊51沿著X
向支架1f在水平方向自由移動。X向光柵尺沿水平方向安裝在狹縫基框1的第一X
向支架1g上,用以記錄左組件6和右組件5沿X向運動的位移。

X向平衡質量系統7包括X向平衡質量塊71和沿X支架1f在水平方向自由運動
的滑塊73a和滑塊73b,該X向平衡質量塊71的質量約為左組件6和右組件5質量
之和的10倍。左組件6和右組件5共用x向驅動電機定子72,該電機定子72沿水平
方向固裝在X向平衡質量塊71上,左組件6和右組件5分別利用左電機動子63和右
電機動子53與電機定子72間的電磁力驅動左刀片65和右刀片55在X向產生運動。
狹縫基框1與X向平衡質量塊71之間在左右兩側各布置一個完全相同的拉伸彈簧14a
和14b,其中拉伸彈簧14a一端連接第一Y支架(1a),另一端連接X向平衡質量塊
71的左側,拉伸彈簧14b一端連接Y支架1e,另一端連接Y向平衡質量塊71的右
側。拉伸彈簧14a和拉伸彈簧14b的彈性系數很小,一般選擇小于0.1N/mm以內。

當電機定子72驅動左組件6和右組件5在水平方向進行運動時,X向平衡質量
系統7因電機的反向作用力在水平方向產生相反運動。由于X向平衡質量塊71相比
左組件6和右組件5的質量較大,因此平衡質量系統7在水平方向的移動范圍相比兩
組件較小。當X向平衡質量塊71在水平方向偏離第一Y支架1a和第四Y支架1e的
中間位置時,拉伸彈簧14a和拉伸彈簧14b的合作用力使X向平衡質量塊71回到水
平方向的中間位置。

上組件2由上刀片25、上電機動子23、上滑塊21、上光柵讀數頭24和上連桿
22構成。上刀片25、上電機動子23、上滑塊21、上光柵讀數頭24均固裝在上連桿
22上,上組件2整體通過上滑塊21沿著第一Y支架1a在豎直方向自由移動。下組
件3由下刀片35、下電機動子33、下滑塊31、下光柵讀數頭34和下連桿32構成。
下刀片35、下電機動子33、下滑塊31、下光柵讀數頭34均固裝在下連桿32上,下
組件3整體通過下滑塊31沿著第一Y向支架1a在豎直方向自由移動。Y向光柵尺
11沿豎直方向安裝在狹縫基框1的第二Y向支架1b上,用以記錄上組件2和下組件
3沿Y向運動的位移。

Y向平衡質量系統4包括Y向平衡質量塊43,沿第一Y支架1a在豎直方向自由
運動的滑塊41a和滑塊41b以及沿第四Y支架1e在豎直方向自由運動的滑塊41c,
且滑塊41a,滑塊41b和滑塊41c分別位于Y向平衡質量塊43的左上角、左下角和
右中間位置。該Y向平衡質量塊43的質量同樣約為上組件2和下組件3質量之和的
10倍。該Y向平衡質量系統4還包括y向驅動電機定子42和配重電機動子44,該y
向驅動電機定子42沿豎直方向固裝在Y向平衡質量塊43上,上組件2和下組件3
分別利用上電機動子23和下電機動子33與y向驅動電機定子42間的電磁力驅動上
刀片25和下刀片35在Y向產生運動。該配重電機動子44固裝在Y向平衡質量塊43
上,與豎直安裝在地說Y支架1d上的配重電機定子13之間產生豎直向上恒定的電磁
力,通過配重電機的恒定電磁力抵消Y向平衡質量系統4、上組件2和下組件3的重
力。X向平衡質量塊71與狹縫基框1之間也布置有兩個完全相同的拉伸彈簧12a和
拉伸彈簧12b,且拉伸彈簧一端均連接狹縫基框1上的支桿1c,另一端均連接Y向平
衡質量塊43。拉伸彈簧12a和拉伸彈簧12b的彈性系數也選擇小于0.1N/mm的值。

當y向驅動電機定子42驅動上組件2和下組件3在豎直方向進行運動時,Y向
平衡質量系統4因電機的反向作用力在豎直方向產生相反運動。由于Y向平衡質量塊
43相比上組件2和下組件3的質量也較大,因此Y向平衡質量系統4在豎直方向的
移動范圍相比兩組件較小。由于配重電機抵消了Y向平衡質量系統4的重力,因此當
Y向平衡質量塊43在豎直方向偏離兩個Y支架1c的中間位置時,拉伸彈簧12a和拉
伸彈簧12b的合作用力使Y向平衡質量塊43回到豎直方向的中間位置。根據胡克定
律,掃描狹縫在掃描過程中,豎直方向拉伸彈簧14a和拉伸彈簧14b對狹縫基框1產
生的合作用力F為:

F=2·K·X

其中K為拉伸彈簧14a或拉伸彈簧14b的彈性系數,X為Y向平衡質量塊43相對豎
直方向中間位置的運動位移量。由于拉伸彈簧14a或拉伸彈簧14b的彈性系數較小,
且Y向平衡質量塊43相對豎直方向中間位置的運動位移也不大,因此拉伸彈簧14a
和拉伸彈簧14b的合作用力F較小,基本可以忽略。

利用X向平衡質量系統7和Y向平衡質量系統4的作用,有效消除了組件2,3,
5,6在運動過程中產生的電機反向作用力,避免了振動力傳遞到光刻機主框架上,進
而影響到光刻機整機性能。同時,由于上組件2和下組件3的測量光柵尺11以及左
組件6和右組件5的測量光柵尺均固定在狹縫基框1的支架上,并且上組件2的滑塊
21、下組件3的滑塊31,左組件的滑塊61以及右組件的滑塊51也都沿著狹縫基框1
上的支架進行運動,因此當X向平衡質量塊71或Y向平衡質量塊43在電機反作用
力下產生相對運動時,并不影響各組件的運動和定位。最終由上刀片25、下刀片35、
左刀片65和右刀片55構成掃描狹縫開口8。該裝置在完全自消除振動力影響的情況
下,能夠保持刀口的運動和定位性能不變。

盡管參照實施例對本發明步進掃描光刻機的自消除振動力的掃描狹縫裝置進行
了特別描述,但以上描述僅是說明性的而不是限制性的,在不超出本發明的精神和范
圍的情況下,所有的變化和修改都在本發明的范圍之內。

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步進 掃描 光刻 消除 振動 狹縫 裝置
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