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一種基于樣本庫和數據擬合的快速三維掩模衍射近場計算方法.pdf

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一種 基于 樣本 數據 擬合 快速 三維 衍射 近場 計算方法
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摘要
申請專利號:

CN201510069623.9

申請日:

2015.02.10

公開號:

CN105045033A

公開日:

2015.11.11

當前法律狀態:

實審

有效性:

審中

法律詳情: 實質審查的生效IPC(主分類):G03F 1/36申請日:20150210|||公開
IPC分類號: G03F1/36(2012.01)I; G03F1/44(2012.01)I 主分類號: G03F1/36
申請人: 北京理工大學
發明人: 馬旭; 高杰; 陳譞博; 董立松; 李艷秋
地址: 100081北京市海淀區中關村南大街5號
優先權:
專利代理機構: 北京理工大學專利中心11120 代理人: 劉芳; 仇蕾安
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201510069623.9

授權公告號:

|||

法律狀態公告日:

2015.12.09|||2015.11.11

法律狀態類型:

實質審查的生效|||公開

摘要

本發明一種基于樣本庫和數據擬合的快速三維掩模衍射近場計算方法的具體過程為:建立三維掩模衍射矩陣樣本庫,并計算對應于凸角、凹角和邊緣區域的衍射近場數據修正因子;對于一個需要計算其衍射近場的三維掩模,確定掩模上的觀測點,并為每個觀測點分配一個子區域;以每個觀測點為中心,在其周圍掩模區域內取一個正方形區域;根據此正方形區域和樣本庫,采用核回歸技術和數據擬合方法,分別計算每個觀測點對應的衍射矩陣回歸結果;最后,將所有觀測點的衍射矩陣回歸結果填充到對應的子區域中,從而拼接成對應整個三維掩模的衍射矩陣計算結果。該方法能夠考慮三維掩模圖形中的拐角結構對其衍射近場的影響,提高三維掩模衍射近場的計算精度。

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本文標題:一種基于樣本庫和數據擬合的快速三維掩模衍射近場計算方法.pdf
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