鬼佬大哥大
  • / 16
  • 下載費用:30 金幣  

波像差測量裝置的誤差校準方法.pdf

摘要
申請專利號:

CN201410149109.1

申請日:

2014.04.15

公開號:

CN105022232A

公開日:

2015.11.04

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||著錄事項變更 IPC(主分類):G03F 7/20變更事項:申請人變更前:上海微電子裝備有限公司變更后:上海微電子裝備(集團)股份有限公司變更事項:地址變更前:201203 上海市浦東新區張東路1525號變更后:201203 上海市浦東新區張東路1525號|||實質審查的生效IPC(主分類):G03F 7/20申請日:20140415|||公開
IPC分類號: G03F7/20; G01M11/02 主分類號: G03F7/20
申請人: 上海微電子裝備有限公司
發明人: 葛亮; 馬明英
地址: 201203上海市浦東新區張東路1525號
優先權:
專利代理機構: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅; 李時云
PDF完整版下載: PDF下載
法律狀態
申請(專利)號:

CN201410149109.1

授權公告號:

|||||||||

法律狀態公告日:

2017.12.29|||2017.08.11|||2015.12.02|||2015.11.04

法律狀態類型:

授權|||著錄事項變更|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明提供了一種波像差測量裝置的誤差校準方法,包括以下步驟:步驟一:通過掩模臺的掩模板上的物面測量標記和工件臺的基準板上的若干個像面測量標記的相對運動進行波像差測量,然后通過測量的結果計算所述基準板的傾斜情況;步驟二:通過測量的結果計算所述基準板的旋轉角度;步驟三:根據所述基準板的傾斜情況和旋轉角度對所述基準板進行調整補償。本發明摒棄了使用掩模對準、硅片對準和FLS來進行物面和像面波像差標記對準的方法,而是使用波像差測量結果計算波像差標記的對準精度,并進行調整;通過測量物面和像面運動臺運動方向和標記方向之間是否存在夾角,并進行調整。

權利要求書

權利要求書
1.  一種波像差測量裝置的誤差校準方法,包括以下步驟: 
步驟一:通過掩模臺的掩模板上的物面測量標記和工件臺的基準板上的若干個像面測量標記的相對運動進行波像差測量,然后通過測量的結果計算所述基準板的傾斜情況; 
步驟二:通過測量的結果計算所述基準板的旋轉角度; 
步驟三:根據所述基準板的傾斜情況和旋轉角度對所述基準板進行調整補償。 

2.  如權利要求1所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:還包括以下步驟: 
步驟四:通過一個物面測量標記和一個像面測量標記的相對運動獲取位相圖,然后通過位相圖計算掩模臺的運動方向與像面測量標記的夾角或者工件臺的運動方向與物面測量標記的夾角; 
步驟五:根據所述夾角對掩模臺位置或工件臺位置進行調整補償。 

3.  如權利要求1所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:在所述步驟一中包括如下步驟: 
S101:將掩模板上的物面測量標記移動至物鏡的視場中心點,將基準板上的像面測量標記的區域中心移動到與物面測量標記對應的名義位置; 
S102:選擇基準板上的若干所述像面測量標記,將所述物面測量標記分別與每個像面測量標記發生相對運動,傳感器進行圖像采集和波像差測量,得 到這若干個像面測量標記對應的澤爾尼克像差系數; 
S103:根據所述澤爾尼克像差系數計算若干所述像面測量標記對應的離焦位置,再通過所述離焦位置計算出所述基準板的傾斜情況Tx、Ty。 

4.  如權利要求3所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:所述像面測量標記的數量為至少4個。 

5.  如權利要求4所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:所述像面測量標記對應的離焦位置dF根據澤爾尼克像差系數Z4通過以下公式獲得: 



其中,n為中間值,dF為離焦量,NA為物鏡的數值孔徑,λ為波長。 

6.  如權利要求3所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:所述基準板的傾斜情況Tx、Ty以及離焦量dF之間的關系符合以下的公式: 
dF=Tx·x+Ty·y+c 
其中,x、y是所述像面測量標記的名義位置,dF為離焦量,c為常數,進而根據該公式和測量結果計算得到所述基準板的傾斜情況Tx、Ty。 

7.  如權利要求6所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:在計 算所述基準板的傾斜情況Tx、Ty時,選擇若干所述像面測量標記中至少三個的測量結果,應用到以下的公式中: 

其中,(x1,y1)、(x2,y2)和(x3,y3)是所述像面測量標記的名義位置,inv為求矩陣的逆,從而計算得到所述基準板的傾斜情況Tx、Ty。 

8.  如權利要求1所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:所述步驟二包括如下步驟: 
S201:根據所述波像差測量,獲得像面測量標記對應的澤爾尼克像差系數,可以計算出所述若干個像面測量標記的實際位置X、Y; 
S202:根據上述實際位置計算所述基準板的旋轉角度Rz。 

9.  如權利要求8所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:在所述步驟S201中,所述波像差測量標記的數量為至少4個,選擇所述像面測量標記中兩個測量結果,利用這兩個測量結果中的Z2、Z3,應用到以下公式中,獲得所述像面測量標記對應的實際位置(X1,Y1)、(X2,Y2): 


其中,NA為物鏡的數值孔徑。 

10.  如權利要求9所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:將所 述像面測量標記對應的實際位置應用到以下公式中,計算所述基準板的旋轉角度Rz: 


11.  如權利要求2所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:所述步驟四包括如下步驟: 
S401:使一個所述物面測量標記與一個所述像面測量標記之間發生相對運動,傳感器采集位相圖,即位相隨標記的運動距離變化而變化的曲線圖; 
S402:根據該位相圖計算位相差,再通過所述位相差計算出掩模臺的運動方向與像面測量標記方向的夾角,或工件臺的運動方向與物面測量標記方向的夾角。 

12.  如權利要求10所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:在所述步驟S401中,所述像面測量標記位置不變,所述物面測量標記沿第一方向做直線移動以掃描所述像面標記,選定所述像面標記第二方向上的兩個區域,所述第一方向垂直于第二方向,移動所述物面測量標記的同時,先對所述像面標記的第一個區域沿第一方向掃描若干個周期,然后所述物面標記切換到所述像面標記的第二個區域,在移動所述物面測量標記的同時沿第一方向掃描若干個周期,從而采集到兩個區域的位相圖。 

13.  如權利要求12所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:利用采集到的位相圖計算得到位相差,計算得到所述掩模臺的運動方向與像面測量標記方向的夾角,或工件臺的運動方向與物面測量標記方向的夾角。 

14.  如權利要求13所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:所述掩模臺的運動方向與像面測量標記方向的夾角,或工件臺的運動方向與物面測量標記方向的夾角通過以下公式得到: 

其中,p為運動光柵周期,d為運動光柵的切換距離,Δθ為位相差。 

15.  如權利要求12所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:當測量Y方向的旋轉時,所述光柵的線條沿Y方向設置,X方向與所述第一方向同向。 

16.  如權利要求12所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:當測量X方向的旋轉時,所述光柵的線條沿X方向設置,Y方向與所述第一方向同向。 

17.  如權利要求1所述的波像差測量裝置的誤差校準方法,其特征在于:還包括步驟六:根據所述調整補償的結果,進行波像差測量。 

說明書

說明書波像差測量裝置的誤差校準方法
技術領域
本發明涉及半導體領域,尤其涉及一種波像差測量裝置的誤差校準方法。 
背景技術
隨著光刻機關鍵尺寸節點的向下延伸,物鏡像質對CD和套刻的影響越來越明顯,所以需要對物鏡波像差和畸變進行精確測量。對物鏡的波像差測量通常使用雙光柵橫向剪切干涉原理,通過物面和像面兩個相互匹配的光柵形成剪切干涉圖對物鏡進行檢測。 
波像差測量分系統使用的像面標記板標記結構如圖1所示,中間的波像差測量標記區域布滿波像差測量標記;區域周圍存在八個WA標記,可用于對準,標記板鍍鉻,存在較高的反射率,可供FLS進行測量。在常規的測量流程中,通過掩模對準和硅片對準完成物面和像面標記的對準過程。但是這樣就存在一個問題,這種方法保證的是對準標記之間的對準精度,而不是波像差測量標記之間的對準精度。這就意味著波像差測量標記之間的對準精度除了受掩模對準精度影響之外還包括了標記加工制造誤差、標記板應力變形和熱變形導致的誤差。這就導致物面和像面的標記會存在傾斜和旋轉,直接影響波像差測量的精度。掩模板標記加工精度目前在幾十個納米數量級,而標記板受應力和熱變形影響導致測量區域內的平整度達到幾百個納米,這些影響對于波像差測 量而言,影響較大。 
對準標記距離波像差測試標記越是遠,帶來的誤差可能越大。目前波像差測試標記和硅片對準標記之間距離將近10mm,如圖1所示,已經很難保證波像差測量標記的對準精度。 
同樣使用調焦調平傳感器對波像差測量標記板進行調平也存在類似問題,測量和調整的是整個標記板的傾斜和旋轉,無法測量波像差測量標記的傾斜。 
而且,由于單個波像差測量標記的旋轉未知,導致像面運動臺或者物面運動臺在掃描或者移相的過程中,可能會導致標記移相和掃描方向之間非正交,這一點也會影響波像差測量的精度。 
所以通過掩模對準、硅片對準和FLS調焦調平之后,物面和像面波像差標記的對準結果可能如圖2所示,存在傾斜和旋轉。在這種情況下,如果需要進一步提高波像差測量精度,就必須得到物面和像面波像差測量標記的直接對準精度,并進行調整從而保證兩者之間不存在傾斜和旋轉。 
發明內容
本發明要解決的技術問題是如何通過對波像差標記的使用提高對準精度,并進行調整。 
為了解決這一技術問題,本發明提供了一種波像差測量裝置的誤差校準方法,包括以下步驟: 
步驟一:通過掩模臺的掩模板上的物面測量標記和工件臺的基準板上的若 干個像面測量標記的相對運動進行波像差測量,然后通過測量的結果計算所述基準板的傾斜情況。 
步驟二:通過測量的結果計算所述基準板的旋轉角度; 
步驟三:根據所述基準板的傾斜情況和旋轉角度對所述基準板進行調整補償。 
還包括以下步驟: 
步驟四:通過一個物面測量標記和一個像面測量標記的相對運動獲取位相圖,然后通過位相圖計算掩模臺的運動方向與像面測量標記的夾角或者工件臺的運動方向與物面測量標記的夾角; 
步驟五:根據所述夾角對掩模臺位置或工件臺位置進行調整補償。 
在所述步驟一中包括如下步驟: 
S101:將掩模板上的物面測量標記移動至物鏡的視場中心點,將基準板上的像面測量標記的區域中心移動到與物面測量標記對應的名義位置。 
S102:選擇基準板上的若干所述像面測量標記,將所述物面測量標記分別與每個像面測量標記發生相對運動,傳感器進行圖像采集和波像差測量,得到這若干個像面測量標記對應的澤爾尼克像差系數; 
S103:根據所述澤爾尼克像差系數計算若干所述像面測量標記對應的離焦位置,再通過所述離焦位置計算出所述基準板的傾斜情況Tx、Ty。 
所述像面測量標記的數量為至少4個。 
所述像面測量標記對應的離焦位置dF根據澤爾尼克像差系數Z4通過以 下公式獲得: 
n=(1-NA2)32;]]>
dZ4dF=0.4×((n+5)×NA2+4×(n-1))NA4;]]>
dF=Z4×λdZ4/dF;]]>
其中,n為中間值,dF為離焦量,NA為物鏡的數值孔徑,λ為波長。 
所述基準板的傾斜情況Tx、Ty以及離焦量dF之間的關系符合以下的公式: 
dF=Tx·x+Ty·y+c 
其中,x、y是所述像面測量標記的名義位置,dF為離焦量,c為常數,進而根據該公式和測量結果計算得到所述基準板的傾斜情況Tx、Ty。 
在計算所述基準板的傾斜情況Tx、Ty時,選擇若干所述像面測量標記中至少三個的測量結果,應用到以下的公式中: 
TxTyc=invx1y11x2y21x3y31·dF1dF2dF3]]>
其中,(x1,y1)、(x2,y2)和(x3,y3)是所述像面測量標記的名義位置,inv為求矩陣的逆,從而計算得到所述基準板的傾斜情況Tx、Ty。 
所述步驟二包括如下步驟: 
S201:根據所述波像差測量,獲得像面測量標記對應的澤爾尼克像差系數,可以計算出所述若干個像面測量標記的實際位置X、Y; 
S202:根據上述實際位置計算所述基準板的旋轉角度Rz。 
在所述步驟S201中,所述波像差測量標記的數量為至少4個,選擇所述像面測量標記中兩個測量結果,利用這兩個測量結果中的Z2、Z3,應用到以下公式中,獲得所述像面測量標記對應的實際位置(X1,Y1)、(X2,Y2): 
X=-Z2NA;]]>
Y=-Z3NA;]]>
其中,NA為物鏡的數值孔徑。 
將所述像面測量標記對應的實際位置應用到以下公式中,計算所述基準板的旋轉角度Rz: 
tan(Rz)=X1-X2Y1-Y2]]>
所述步驟四包括如下步驟: 
S401:使一個所述物面測量標記與一個所述像面測量標記之間發生相對運動,傳感器采集位相圖,即位相隨標記的運動距離變化而變化的曲線圖; 
S402:根據該位相圖計算位相差,再通過所述位相差計算出掩模臺的運動方向與像面測量標記方向的夾角,或工件臺的運動方向與物面測量標記方向的夾角。 
在所述步驟S401中,所述像面測量標記位置不變,所述物面測量標記沿第一方向做直線移動以掃描所述像面標記,選定所述像面標記第二方向上的兩 個區域,所述第一方向垂直于第二方向,移動所述物面測量標記的同時,先對所述像面標記的第一個區域沿第一方向掃描若干個周期,然后所述物面標記切換到所述像面標記的第二個區域,在移動所述物面測量標記的同時沿第一方向掃描若干個周期,從而采集到兩個區域的位相圖。 
所述波像差測量標記為光柵。 
利用采集到的位相圖計算得到位相差,計算得到所述掩模臺的運動方向與像面測量標記方向的夾角,或工件臺的運動方向與物面測量標記方向的夾角。 
所述掩模臺的運動方向與像面測量標記方向的夾角,或工件臺的運動方向與物面測量標記方向的夾角通過以下公式得到: 
tan(R)=p×Δθ2×π×d]]>
其中,p為運動光柵周期,d為運動光柵的切換距離,Δθ為位相差。 
當測量Y方向的旋轉時,所述光柵的線條沿Y方向設置,X方向與所述第一方向同向。 
當測量X方向的旋轉時,所述光柵的線條沿X方向設置,Y方向與所述第一方向同向。 
所述的波像差測量裝置的誤差校準方法還包括步驟六:根據所述調整補償的結果,進行波像差測量。 
本發明摒棄了使用掩模對準、硅片對準和FLS來進行物面和像面波像差標記對準的方法,而是使用了波像差測量標記來實現所述基準板的傾斜情況和 旋轉角度以及掩模板或基準板的運動方向與波像差測量標記方向的旋轉夾角進行調整補償。具體來說,使用波像差測量結果計算波像差標記的對準精度,并進行調整;通過測量物面和像面運動臺運動方向和標記方向之間是否存在夾角,并進行調整。 
附圖說明
圖1是現有技術中的對準標記和波像差測量標記的分布示意圖; 
圖2是現有技術中波像差測量標記對準結果示意圖; 
圖3是本發明一實施例中波像差測量裝置的結構示意圖; 
圖4是本發明一實施例中的流程示意圖; 
圖5是本發明一實施例中測試標記1、2、3、4的示意圖; 
圖6和圖7是本發明一實施例中掩模板或基準板的運動方向與波像差測量標記方向存在旋轉的位相示意圖; 
圖8和圖9是本發明一實施例中掩模板或基準板的運動方向與波像差測量標記方向不存在旋轉的位相示意圖。 
具體實施方式
以下將結合圖3至圖9通過一個實施例對本發明提供的波像差測量裝置的誤差校準方法進行詳細的描述,其為本發明一可選的實施例,可以認為本領域的技術人員在不改變本發明精神和內容的范圍內,能夠對其進行修改和潤色。 
本發明用于解決波像差測量過程中物面和像面測量標記的對準誤差。本發明與現有技術相比,降低了波像差測量對FLS、掩模對準、硅片對準的依賴性;提高了波像差測量標記的對準精度;提高了波像差測量的精度。 
由于波像差測量結果本身具備很高的精度,所以調整精度很高。波像差的精度可以達到幾個納米,由于可用于波像差測量的標記區域大小在厘米數量級,所以物面和像面測量標記對準傾斜和旋轉的測量精度可以達到微弧度數量級。 
同樣波像差測量精度達到納米數量級,這就意味著位相測量精度可以達到pi/100,同樣,對于物面或像面運動臺的運動方向和測量標記方向之間的夾角,測量精度也可以達到微弧度數量級。 
綜上,本發明可以達到很高的測量精度。 
請參考圖3和圖4,本實施例提供了一種波像差測量裝置的誤差校準方法,包括以下步驟: 
步驟一:通過掩模臺的掩模板上的一個物面測量標記和工件臺的基準板上的若干個像面測量標記的相對運動進行波像差測量,然后通過測量的結果計算所述基準板的傾斜情況。 
步驟二:通過測量的結果計算所述基準板的旋轉角度。 
步驟三:根據所述基準板的傾斜情況和旋轉角度對所述基準板進行調整補償。 
進一步的,步驟四:通過一個物面測量標記和一個像面測量標記的相對運 動獲取位相圖,然后通過位相圖計算掩模臺的運動方向與像面測量標記的夾角或者工件臺的運動方向與物面測量標記的夾角。 
步驟五:根據所述夾角對掩模臺位置或工件臺位置進行調整補償。 
進一步的,步驟六:根據所述調整補償的結果,進行波像差測量。 
所述步驟一通過掩模臺的掩模板上的一個物面測量標記和工件臺的基準板上的若干個像面測量標記的相對運動進行波像差測量,然后通過測量的結果計算所述基準板的傾斜情況,進一步包括: 
S101:將掩模板上的物面測量標記移動至物鏡的視場中心點,將基準板上的像面測量標記的區域中心移動到與物面測量標記對應的名義位置。 
其中,請參考圖3,波像差測量標記包括所述基準板上的像面測量標記和所述掩模板上的物面測量標記,基準板和掩模板上還另有對準標記,在圖中就不做表述了。 
S102:選擇基準板上的若干所述像面測量標記,將所述物面測量標記分別與每個像面測量標記發生相對運動,傳感器進行圖像采集和波像差測量,得到這若干個像面測量標記對應的澤爾尼克像差系數。 
本實施例中,所述像面測量標記的數量至少為4個,本實施例列舉了4個,即如圖5所示的測量標記1、2、3、4。 
S103:根據所述澤爾尼克像差系數計算若干所述像面測量標記對應的離焦位置。 
具體來說,本實施例中,四個所述像面測量標記對應的離焦位置dF根據 澤爾尼克像差系數Z4通過以下公式獲得: 
n=(1-NA2)32;]]>
dZ4dF=0.4×((n+5)×NA2+4×(n-1))NA4;]]>
dF=Z4×λdZ4/dF;]]>
其中,n為中間值,dF為離焦量,NA為物鏡的數值孔徑,λ為波長。 
S104:通過所述離焦位置計算出所述基準板的傾斜情況Tx、Ty。 
需要說明的是,所述基準板的傾斜情況Tx、Ty以及離焦量dF之間的關系符合以下的公式: 
dF=Tx·x+Ty·y+c 
其中,x、y是所述像面測量標記的名義位置,dF為離焦量,c為常數。 
由于選擇了若干個像面測量標記進行測量,因此在計算所述基準板的傾斜情況Tx、Ty時,選擇若干所述像面測量標記中至少三個測量結果,在本實施例中,在四次測量結果中選擇三個,應用到以下的公式中: 
TxTyc=invx1y11x2y21x3y31·dF1dF2dF3]]>
其中,(x1,y1)、(x2,y2)和(x3,y3)是所述像面測量標記的名義位置,inv為求矩陣的逆,從而計算得到所述基準板的傾斜情況Tx、Ty。 
所述步驟二通過測量的結果計算所述基準板的旋轉角度,進一步包括: 
S201:根據所述波像差測量,獲得像面測量標記對應的澤爾尼克像差系數,可以計算出所述若干個像面測量標記的實際位置x、y。 
具體來說,澤爾尼克像差系數包括Z2、Z3,在本實施例中,所述波像差測量標記的數量為至少4個,選擇所述像面測量標記中兩個測量結果,利用這兩個測量結果中的Z2、Z3,應用到以下公式中,獲得所述像面測量標記對應的實際位置(X1,Y1)、(X2,Y2): 
X=-Z2NA;]]>
Y=-Z3NA;]]>
其中,NA為物鏡的數值孔徑。 
S202:將所述像面測量標記對應的實際位置應用到以下公式中,計算所述基準板的旋轉角度Rz: 
tan(Rz)=X1-X2Y1-Y2.]]>
所述步驟四通過一個物面測量標記和一個像面測量標記的相對運動獲取位相圖,然后通過位相圖計算掩模臺的運動方向與像面測量標記的夾角或者工件臺的運動方向與物面測量標記的夾角,進一步包括: 
S401:使一個所述物面測量標記與一個所述像面測量標記之間發生相對運動,傳感器采集位相圖,即位相隨標記的運動距離變化而變化的曲線圖; 
在本實施例中,由于波像差測量標記像面測量標記大于物面測量標記,所以本實施例優選了所述像面測量標記位置不變,所述物面測量標記進行移動的 方案,具體來說,在測量時,所述像面測量標記位置不變,所述物面測量標記沿第一方向做直線移動以掃描所述像面標記,選定所述像面標記第二方向上的兩個區域,所述第一方向垂直于第二方向,移動所述物面標記的同時,先對所述像面標記的第一個區域沿第一方向掃描若干個周期,然后所述物面標記切換到所述像面標記的第二個區域,在移動所述物面標記的同時沿第一方向掃描若干個周期,從而采集到兩個區域的位相圖。所述波像差測量標記為光柵。當然,在本發明其他可選的實施例中,也可以采用物面測量標記位置不變,像面測量標記進行移動的方案,其原理與實施方法均與本實施例相類似。 
進一步來說,在本實施例中,請參考圖6至圖9,測量過程中保持像面測量標記位置不變,可以沿如圖所示的X方向移動物面測量標記,當測量Y方向的旋轉時,所述光柵的線條沿Y方向設置,X方向與所述第一方向同向。本實施例中,在像面測量標記最上方區域沿X方向掃描若干個標記周期,然 后切換到像面測量標記最下方的區域,沿X方向掃描若干個周期,傳感器在下方進行圖像采集,當然物面測量標記不能超過像面測量標記的范圍。位相圖可以通過傳感器測量得到的波前計算出也可以根據傳感器測量的光強直接進行轉換得到,其中,縱軸表示位相,橫軸表示測量標記移動的距離。 
在本發明另一可選的實施例中,當測量X方向的旋轉時,所述光柵的線條沿X方向設置,Y方向與所述第一方向同向,即沿Y方向移動物面測量標記。 
S402:根據該位相圖計算位相差,再通過所述位相差計算出掩模臺的運 動方向與像面測量標記方向的夾角,或工件臺的運動方向與物面測量標記方向的夾角。 
具體說來,經過以上的步驟后,可以利用采集到的位相圖計算得到位相差,所述掩模臺的運動方向與像面測量標記方向的夾角,或工件臺的運動方向與物面測量標記方向的夾角通過以下公式得到: 
tan(R)=p×Δθ2×π×d]]>
其中,p為運動光柵的周期,d為運動光柵的切換距離,Δθ為位相差。 
綜上所述,本發明摒棄了使用掩模對準、硅片對準和FLS來進行物面和像面波像差標記對準的方法,而是使用了波像差測量標記來實現所述基準板的傾斜情況和旋轉角度以及掩模臺或工件臺的運動方向與波像差測量標記方向的旋轉夾角進行調整補償。具體來說,使用波像差測量結果計算波像差標記的對準精度,并進行調整;通過測量物面和像面運動臺運動方向和標記方向之間是否存在夾角,并進行調整。 

關 鍵 詞:
波像差 測量 裝置 誤差 校準 方法
  專利查詢網所有資源均是用戶自行上傳分享,僅供網友學習交流,未經上傳用戶書面授權,請勿作他用。
關于本文
本文標題:波像差測量裝置的誤差校準方法.pdf
鏈接地址:http://www.wwszu.club/p-6401690.html
關于我們 - 網站聲明 - 網站地圖 - 資源地圖 - 友情鏈接 - 網站客服客服 - 聯系我們

[email protected] 2017-2018 zhuanlichaxun.net網站版權所有
經營許可證編號:粵ICP備17046363號-1 
 


收起
展開
鬼佬大哥大