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波像差測量裝置的誤差校準方法.pdf

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波像差 測量 裝置 誤差 校準 方法
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摘要
申請專利號:

CN201410149109.1

申請日:

2014.04.15

公開號:

CN105022232A

公開日:

2015.11.04

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||著錄事項變更 IPC(主分類):G03F 7/20變更事項:申請人變更前:上海微電子裝備有限公司變更后:上海微電子裝備(集團)股份有限公司變更事項:地址變更前:201203 上海市浦東新區張東路1525號變更后:201203 上海市浦東新區張東路1525號|||實質審查的生效IPC(主分類):G03F 7/20申請日:20140415|||公開
IPC分類號: G03F7/20; G01M11/02 主分類號: G03F7/20
申請人: 上海微電子裝備有限公司
發明人: 葛亮; 馬明英
地址: 201203上海市浦東新區張東路1525號
優先權:
專利代理機構: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅; 李時云
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201410149109.1

授權公告號:

|||||||||

法律狀態公告日:

2017.12.29|||2017.08.11|||2015.12.02|||2015.11.04

法律狀態類型:

授權|||著錄事項變更|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明提供了一種波像差測量裝置的誤差校準方法,包括以下步驟:步驟一:通過掩模臺的掩模板上的物面測量標記和工件臺的基準板上的若干個像面測量標記的相對運動進行波像差測量,然后通過測量的結果計算所述基準板的傾斜情況;步驟二:通過測量的結果計算所述基準板的旋轉角度;步驟三:根據所述基準板的傾斜情況和旋轉角度對所述基準板進行調整補償。本發明摒棄了使用掩模對準、硅片對準和FLS來進行物面和像面波像差標記對準的方法,而是使用波像差測量結果計算波像差標記的對準精度,并進行調整;通過測量物面和像面運動臺運動方向和標記方向之間是否存在夾角,并進行調整。

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本文標題:波像差測量裝置的誤差校準方法.pdf
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