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觸控面板與具有該觸控面板的觸控裝置.pdf

摘要
申請專利號:

CN201410154731.1

申請日:

2014.04.17

公開號:

CN105022511A

公開日:

2015.11.04

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G06F 3/041申請日:20140417|||公開
IPC分類號: G06F3/041 主分類號: G06F3/041
申請人: 宸鴻光電科技股份有限公司
發明人: 黃俊榮; 王盈富
地址: 中國臺灣臺北市
優先權:
專利代理機構: 北京戈程知識產權代理有限公司11314 代理人: 程偉; 王錦陽
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201410154731.1

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2018.10.02|||2015.12.02|||2015.11.04

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明涉及觸控技術領域,公開了一種觸控面板,包含一基板、一遮蔽層以及一第一抗反射層。遮蔽層位于基板的表面,且遮蔽層包含一攝像窗,由部分遮蔽層鏤空界定于基板的表面,而第一抗反射層則位于攝像窗內。本發明有助于降低生產成本并提高生產良率。

權利要求書

權利要求書
1.  一種觸控面板,其特征在于,包含:
一基板;
一遮蔽層,位于該基板之上,其中該遮蔽層包含一攝像窗,由部分該遮蔽層鏤空界定于該基板的表面;以及
一第一抗反射層,位于該攝像窗內。

2.  根據權利要求1所述的觸控面板,其特征在于,其中該遮蔽層將該基板劃分為一觸控區域與一圍繞該觸控區域的外圍區域,且該遮蔽層與該攝像窗位于該外圍區域之內。

3.  根據權利要求1所述的觸控面板,其特征在于,其中該第一抗反射層更覆蓋于部分該遮蔽層的表面。

4.  根據權利要求1所述的觸控面板,其特征在于,其中該第一抗反射層限定于該攝像窗內。

5.  根據權利要求1所述的觸控面板,其特征在于,另包含一第二抗反射層位于該基板與該遮蔽層之間。

6.  根據權利要求5所述的觸控面板,其特征在于,其中該遮蔽層與該第一抗反射層位于該第二抗反射層上。

7.  根據權利要求5所述的觸控面板,其特征在于,其中該基板具有一第一表面以及一第二表面,該第一表面與該第二表面位于該基板的相反側,且該第二抗反射層位于該基板的第二表面,其中,另包含一第三抗反射層位于該基板的第一表面上。

8.  根據權利要求7所述的觸控面板,其特征在于,另包含一功能層位于該第三抗反射層上,其中該功能層包含一防爆層、一抗眩光層、一硬化層以及一防指紋層的其中之一或其組合。

9.  根據權利要求1所述的觸控面板,其特征在于,其中該基板具有一第一表面以及一第二表面,該第一表面與該第二表面位于該基板的相反側,且該遮蔽層與該攝像窗位于該基板的第二表面,其中,另包含一第二抗反射層位于該基板的第一表面上。

10.  根據權利要求9所述的觸控面板,其特征在于,另包含一功能層位于該第二抗反射層上,其中該功能層包含一防爆層、一抗眩光層、一硬化層以及一防指紋層的其中之一或其組合。

11.  一種觸控裝置,其特征在于,包含:
一基板;
一遮蔽層,位于該基板的表面,其中該遮蔽層包含一攝像窗,由部分該遮蔽層鏤空界定于該基板的表面;
一顯示模塊,具有對應至該攝像窗的一影像提取元件;以及
一第一抗反射層,位于該攝像窗內。

12.  根據權利要求11所述的觸控裝置,其特征在于,其中該遮蔽層將該基板劃分為一觸控區域與一圍繞該觸控區域的外圍區域,且該遮蔽層與該攝像窗位于該外圍區域之內。

13.  根據權利要求11所述的觸控裝置,其特征在于,其中該第一抗反射層更覆蓋于部分該遮蔽層的表面。

14.  根據權利要求11所述的觸控裝置,其特征在于,另包含一第二抗反射層位于該基板與該遮蔽層之間。

15.  根據權利要求14所述的觸控裝置,其特征在于,其中該遮蔽層與該第一抗反射層位于該第二抗反射層上。

16.  根據權利要求14所述的觸控裝置,其特征在于,其中該基板具有一第一表面以及一第二表面,該第一表面與該第二表面位于該基板的相反側,且該第二抗反射層位于該基板的第二表面,其中,另包含一第三抗反射層位于該基板的第一表面上。

17.  根據權利要求16所述的觸控裝置,其特征在于,另包含一功能層位于該第三抗反射層上,其中該功能層包含一防爆層、一抗眩光層、一硬化層以及一防指紋層的其中的一或其組合。

18.  根據權利要求11所述的觸控裝置,其特征在于,其中該基板具有一第一表面以及一第二表面,該第一表面與該第二表面位于該基板的相反側,且該遮蔽層與該攝像窗位于該基板的第二表面,其中,另包含一第二抗反射層位于該基板的第一表面上。

19.  根據權利要求18所述的觸控裝置,其特征在于,另包含一功能層位于該第二抗反射層上,其中該功能層包含一防爆層、一抗眩光層、一硬化層以及一防指紋層的其中之一或其組合。

20.  根據權利要求11所述的觸控裝置,其特征在于,另包含一中介基板位于該遮蔽層與該顯示模塊之間。

說明書

說明書觸控面板與具有該觸控面板的觸控裝置
技術領域
本發明涉及觸控技術,特別涉及觸控面板以及具有該觸控面板的觸控裝置。
背景技術
觸控面板(touch panel)或觸控屏幕(touch screen)逐漸普遍應用于電子裝置中,特別是可攜式或手持式電子裝置,例如個人數字助理(PDA)或移動電話。目前的觸控面板中,有些面板為增加抗反射能力及提高視覺的清晰度,會在其玻璃基板表面(觸控操作表面)鍍上一層抗反射膜,藉以降低玻璃基板表面的反射并增加光線通過玻璃基板的穿透率。此外,就設置有攝像孔的觸控面板而言,該抗反射膜亦有助于提高影像提取時的影像清晰度。然而隨著電子裝置與觸控面板的演進,高影像清晰度的需求亦不斷提升。如何配置抗反射膜以提高影像清晰度乃觸控面板產業的一項課題。
發明內容
有鑒于此,本發明的目的在于有效配置抗反射膜,以提高影像清晰度。本發明的實施例提供一種觸控觸控面板,包含一基板、一遮蔽層以及一第一抗反射層。遮蔽層位于基板的表面,且遮蔽層包含一攝像窗,攝像窗由部分遮蔽層鏤空界定于基板的表面,而第一抗反射層則位于攝像窗內。
本發明的實施例中,遮蔽層將基板劃分為一觸控區域與一圍繞觸控區域的外圍區域,且遮蔽層與攝像窗位于外圍區域之內。
本發明的實施例中,第一抗反射層更覆蓋于部分遮蔽層的表面。
本發明的實施例中,第一抗反射層限定于攝像窗內。
本發明的實施例中,另包含一第二抗反射層位于基板與遮蔽層之間。
本發明的實施例中,遮蔽層與第一抗反射層位于第二抗反射層上。
本發明的實施例中,基板具有一第一表面以及一第二表面,第一表面與第二表面位于基板的相反側,且第二抗反射層位于基板的第二表面,另包含一第三抗反射層位于基板的第一表面上。
本發明的實施例中,另包含一功能層位于第三抗反射層上,其中功能層包含一防爆層、一抗眩光層、一硬化層以及一防指紋層的其中之一或其組合。
本發明的實施例中,基板具有一第一表面以及一第二表面,第一表面與第二表面位于基板的相反側,且遮蔽層與攝像窗位于基板的第二表面,其中,另包含一第二抗反射層位于基板的第一表面上。
本發明的實施例中,另包含一功能層位于第二抗反射層上。功能層包含一防爆層、一抗眩光層、一硬化層以及一防指紋層的其中之一或其組合。
本發明的實施例另提供一種觸控裝置,包含一基板、一顯示模塊、一遮蔽層與一第一抗反射層。遮蔽層位于基板的表面,且遮蔽層包含一攝像窗,由部分遮蔽層鏤空界定于基板的表面。顯示模塊具有對應至攝像窗的一影像提取元件,而第一抗反射層位于攝像窗內。
本發明的實施例中,遮蔽層將基板劃分為一觸控區域與一圍繞觸控區域的外圍區域,且遮蔽層與攝像窗位于外圍區域之內。
本發明的實施例中,第一抗反射層更覆蓋于部分遮蔽層的表面。
本發明的實施例中,另包含一第二抗反射層位于基板與遮蔽層之間。
本發明的實施例中,遮蔽層與第一抗反射層位于第二抗反射層上。
本發明的實施例中,基板具有一第一表面以及一第二表面,第一表面與第二表面位于基板的相反側,且第二抗反射層位于基板的第二表面。另包含一第三抗反射層位于基板的第一表面上。
本發明的實施例中,另包含一功能層位于第三抗反射層上。功能層包含一防爆層、一抗眩光層、一硬化層以及一防指紋層的其中之一或其組合。
本發明的實施例中,基板具有一第一表面以及一第二表面,第一表面與第二表面位于基板的相反側,且遮蔽層與攝像窗位于基板的第二表面。另包含一第二抗反射層位于基板的第一表面上。
本發明的實施例中,另包含一功能層位于第二抗反射層上,其中功能層包含一防爆層、一抗眩光層、一硬化層以及一防指紋層的其中之一或其組合。本發明的實施例中,另包含一中介基板位于遮蔽層與顯示模塊之間。
在本發明的實施例中,設置于攝像窗內的第一抗反射層有助于提高光通過攝像窗的光穿透率,例如將原本約90±2%的光穿透率提升至約94±2%。此外,第一抗反射層亦有助于提高影像提取元件提取影像時的清晰度。又,第一抗反射層可限制在攝像窗的范圍內,因而使第一抗反射層占較小面積,有助于降低生產成本并提高生產良率。
本發明的技術內容及技術特點已揭示如上,然而本發明所屬技術領域中的技術人員應了解,在不背離所附權利要求所界定的本公開精神和范圍內,本發明的教示及揭示可作種種的替換及修飾。例如,上文揭示的許多元件可以不同的結構實施或以其它相同功能的結構予以取代,或者采用其組合。
此外,本案的權利范圍并不局限于上文揭示的特定實施例的裝置、元件或結構。本發明所屬技術領域中的技術人員應了解,基于本發明教示及揭示裝置、元件或結構,無論現在已存在或日后開發者,其與本案實施例揭示者以實質相同的方式執行實質相同的功能,而達到實質相同的結果,亦可使用于本公開。因此,權利要求用以涵蓋此類裝置、元件或結構。
附圖說明
本發明的前揭摘要以及下文的詳細說明在伴隨各附圖來閱讀時當可更容易了解。為達本發明的說明目的,各附圖里圖繪有現屬較佳的各具體實施例。然而本發明并不限于所繪的精確排置方式及設備裝置,此點應可理解。
圖1A所示為根據本發明的一實施例,觸控面板的俯視示意圖;
圖1B所示為根據本發明的一實施例,包含圖1A觸控面板的觸控裝置沿圖1A中AA方向的剖面示意圖;
圖1C所示為根據本發明的另一實施例,包含圖1A觸控面板的觸控裝置沿圖1A中AA方向的剖面示意圖;
圖2所示為根據本發明的又一實施例,觸控裝置的剖面示意圖;
圖3所示為根據本發明的另一實施例,觸控裝置的剖面示意圖;
圖4所示為根據本發明的再一實施例,觸控裝置的剖面示意圖;
圖5所示為根據本發明的一實施例,觸控裝置的剖面示意圖;
圖6所示為根據本發明的又一實施例,觸控裝置的剖面示意圖;
圖7所示為根據本發明的另一實施例,觸控裝置的剖面示意圖;以及
圖8所示為根據本發明的再一實施例,觸控裝置的剖面示意圖。
其中,附圖標記說明如下:
10  觸控面板
11  基板
12  遮蔽層
14  攝像窗
15  第一抗反射層
18  顯示模塊
20  觸控面板
25  第二抗反射層
30  觸控面板
35  第二抗反射層
36  功能層
40  觸控面板
45  第三抗反射層
50  觸控面板
51  中介基板
60  觸控面板
70  觸控面板
80  觸控面板
100 觸控裝置
101 第一表面
102 第二表面
111 觸控區域
112 外圍區域
185 影像提取元件
200 觸控裝置
300 觸控裝置
400 觸控裝置
500 觸控裝置
600 觸控裝置
700 觸控裝置
800 觸控裝置
具體實施方式
圖1A所示為根據本發明的一實施例,觸控面板10的俯視示意圖。圖1B所示為根據本發明的一實施例,包含圖1A觸控面板10的觸控裝置100沿圖1A中AA方向的剖面示意圖。請同時參照圖1A及圖1B,觸控裝置100包含觸控面板10以及一顯示模塊18。觸控面板10包含一基板11、一遮蔽層12、一攝像窗14與一第一抗反射層15。其中,遮蔽層12設置于基板11的表面,并將基板11其劃分為一觸控區域111與一圍繞觸控區域111的外圍區域112。遮蔽層12亦將部分基板11的表面外圍區域112鏤空界定為攝像窗14,做為影像提取的窗口。觸控區域111內設置有觸控感測電極層(未繪示于圖中),用以感測觸控面板10上的觸碰位置或軌跡。此外,外圍區域112內亦設置有信號接線(未繪示于圖中),其電性連接觸控感測電極層。
顯示模塊18具有對應至攝像窗14的一影像提取元件185,例如是電荷耦合元件(charge-coupled device;CCD)、互補式金屬氧化物半導體有源像素傳感器(CMOS active pixel sensor)或紅外線傳感器(infrared sensor)。
在本發明的一實施例中,基板11可為一硬式透光基板或一可撓式透光基板,其材料可選自玻璃、壓克力(PMMA)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)等透明材料。
基板11具有一第一表面101以及一第二表面102,且第一表面101與第二表面102位于基板11的相反側。第一表面101做為觸控裝置100使用者觸碰的介面,而例如在第二表面102上的觸控區域111內設置有觸控感測電極層,以感測使用者觸碰于第一表面101的相關觸碰位置或軌跡。觸控感測電極層包含第一軸向電極與第二軸向電極。電極的材料可包括各種透明導電材料,例如,氧化銦錫(indium tin oxide;ITO)、氧化銦鋅(indium zinc oxide;IZO)、氧化鎘錫(cadmium tin oxide;CTO)、氧化鋁鋅(aluminum zinc oxide;AZO)、氧化銦鋅錫(indium tin zinc oxide;ITZO)、氧化鋅(zinc oxide)、氧化鎘(cadmium oxide)、氧化鉿(hafnium oxide;HfO)、氧化銦鎵鋅(indium gallium zinc oxide;InGaZnO)、氧化銦鎵鋅鎂(indium gallium zinc magnesium oxide;InGaZnMgO)、氧化銦鎵鎂(indium gallium magnesium oxide;InGaMgO)或氧化銦鎵鋁(indium gallium aluminum oxide;InGaAlO)。在一實施例中,電極的材料可包括不透明導電材料,例如,由金屬材料構成的金屬網格(Metal Mesh)。
遮蔽層12位于基板11第二表面102的外圍區域112之內。遮蔽層12通常采用不透明材料制成,以遮蔽觸控區域111外的元件例如信號接線。在本發明的一實施例中,遮蔽層12的材料可選自黑色光阻材料、黑色樹脂、黑色油墨、低反射率的薄膜或具有其他顏色的類似材料。
攝像窗14由部分該遮蔽層12鏤空界定于基板11的第二表面102的外圍區域112之內。詳言之,將部分外圍區域112中未經遮蔽層12遮覆的部分界定為攝像窗14。攝像窗14的位置相對應于影像提取元件185,以俾影像提取元件185透過攝像窗14提取影像。
第一抗反射層15則位于攝像窗14內。在本發明的一實施例中,將一抗反射膜貼附于攝像窗14內來形成第一抗反射層15。在本發明的另一實施例中,則以噴涂或濺鍍的方式于攝像窗14內形成第一抗反射層15。第一抗反射層15的設置有助于提高光通過攝像窗14的光穿透率,以滿足影像提取元件185對光穿透率的要求。在本發明的一實施例中,第一抗反射層15的材料可選自鉻(Cr)或氟化物例如鐵氟龍膠與氟化鈣(CaF2)。
在本實施例中,遮蔽層12與第一抗反射層15接觸并且位于基板10的第二表面102上。又,在本發明的一實施例中,第一抗反射層15限定于攝像窗14與該部分遮蔽層之間。經此配置,由于第一抗反射層15的面積較小,僅需限制在攝像窗14的范圍內,有助于降低生產成本并提高生產良率。
在本發明的另一實施例中,如圖1C所示,第一抗反射層15更覆蓋于部分遮蔽層12的表面。經此配置,第一抗反射層15能夠更完整覆蓋攝像窗14,有助于提高攝像窗14整體的光穿透率。
在本發明的實施例中,顯示模塊18可包含液晶顯示(liquid crystal display;LCD)面板、電激發光(electroluminescent;EL)顯示面板例如有機發光二極管(OLED)顯示面板、電潤濕(electrowetting)顯示面板、電泳(electrophoretic)顯示面板或其它各種類型的自發光型顯示面板、非自發光型顯示面板、硬式顯示面板或可撓式顯示面板。此外,顯示模塊18與觸控面板10可利用一黏著層(未繪示于圖中)加以黏合。舉例而言,該黏著層使用一框形膠或口字膠,其僅設置在顯示模塊18與觸控面板10之間的外圍區域112。惟在其它變化實施例中,黏著層亦可為一完整的膠層。黏著層可包含光學膠(Optical Clear Resin;OCR)或光學膠帶(Optical Clear Adhesive;OCA)。又,光學膠可以是水膠或光學透明的特殊雙面膠。
圖2所示為根據本發明的又一實施例,觸控裝置200的剖面示意圖。請參照圖2,觸控裝置200的元件與結構類同于圖1B所示的觸控裝置100,惟觸控裝置200的觸控面板20另包含一第二抗反射層25位于基板11與遮蔽層12之間。在本實施例中,遮蔽層12與第一抗反射層15接觸并且位于第二抗反射層25上。第二抗反射層25的設置有助于提高基板11的光穿透率并降低基板11的光反射。在本發明的一實施例中,第二抗反射層25的材料可選自鉻(Cr)或氟化物例如鐵氟龍膠與氟化鈣(CaF2)。
圖3所示為根據本發明的另一實施例,觸控裝置300的剖面示意圖。請參照圖3,觸控裝置300的元件與結構類同于圖1B所示的觸控裝置100,惟觸控裝置300的觸控面板30另包含一第二抗反射層35位于基板11的第一表面101上。第二抗反射層35的設置有助于提高基板11的光穿透率并降低基板11的光反射。在本發明的一實施例中,第二抗反射層35的材料可選自鉻(Cr)或氟化物例如鐵氟龍膠與氟化鈣(CaF2)。
又,觸控裝置300的觸控面板30另包含一功能層36位于第二抗反射層35上。功能層36可包含但不限定于一防爆層(anti-split;AS)、一抗眩光層(anti-glare;AG)、一硬化層(hard coat;HC)以及一防指紋層(anti-fingerprint;AF)的其中之一或其組合。
當功能層36做為防爆用途時,功能層36的材料可選自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、三聚醋酸纖維素(TAC)、聚酯(PET)、聚丙稀(PP)、聚烴基(COP)、或以所述材料組合制作。
當功能層36做為抗眩光用途時,功能層36的材料可選自二氧化硅。該抗眩光膜的霧度(haze)約介于1%~2%之間,用以散射光線并防止牛頓環的現象產生。
當功能層36做為硬化用途時,功能層36的材料可選自感光性樹脂或二氧化硅(SiO2),使得表面硬度例如高于2H、穿透率例如高于91﹪、翹曲例如不高于10mm。
當功能層36做為防指紋用途時,功能層36的材料可選自高分子薄膜、金屬氧化物薄膜或納米溶膠薄膜。
圖4所示為根據本發明的再一實施例,觸控裝置400的剖面示意圖。請參照圖4,觸控裝置400的元件與結構類同于圖2所示的觸控裝置200,惟觸控裝置400的觸控面板40另包含一第三抗反射層45位于基板11的第一表面101上。并且,第二抗反射層25位于基板11的第二表面102上。第三抗反射層45的設置有助于提高基板11的光穿透率并降低基板11的光反射。在本發明的一實施例中,第三抗反射層45的材料可選自鉻(Cr)或氟化物例如鐵氟龍膠與氟化鈣(CaF2)。
又,觸控裝置400的觸控面板40另包含一功能層36位于第三抗反射層45上。功能層36可包含但不限定于一防爆層(anti-split;AS)、一抗眩光層(anti-glare;AG)、一硬化層(hard coat;HC)以及一防指紋層(anti-fingerprint;AF)的其中之一或其組合。
圖5所示為根據本發明的一實施例,觸控裝置500的剖面示意圖。請參照圖5,觸控裝置500的元件與結構類同于圖1B所示的觸控裝置100,惟觸控裝置500的觸控面板50另包含一中介基板51位于遮蔽層12與顯示模塊18之間。中介基板51的材料類同于基板11的材料。此外,中介基板51與基板11可利用一黏著層(未繪示于圖中)加以黏合。又,中介基板51與顯示模塊18可利用另一黏著層(未繪示于圖中)加以黏合。黏著層的結構與材料如前文實施例所述,于此不另贅敘。
中介基板51的設置有助于使觸控感測電極層的電極的配置多樣化,以俾觸控裝置500做不同的運用。舉例而言,觸控感測電極層的第一軸向電極可設置于基板11上,而第二軸向電極則設置于中介基板51上。再舉例而言,觸控感測電極層的第一軸向電極可設置于中介基板51靠近基板11的表面,而第二軸向電極則設置于中介基板51靠近顯示模塊18的表面。
圖6所示為根據本發明的又一實施例,觸控裝置600的剖面示意圖。請參照圖6,觸控裝置600的元件與結構類同于圖2所示的觸控裝置200,惟觸控裝置600的觸控面板60另包含一中介基板51位于遮蔽層12與顯示模塊18之間。中介基板51的功用如前文實施例所述,于此不另贅敘。
圖7所示為根據本發明的另一實施例,觸控裝置700的剖面示意圖。請參照圖7,觸控裝置700的元件與結構類同于圖3所示的觸控裝置300,惟觸控裝置700的觸控面板70另包含一中介基板51位于遮蔽層12與顯示模塊18之間。
圖8所示為根據本發明的再一實施例,觸控裝置800的剖面示意圖。請參照圖8,觸控裝置800的元件與結構類同于圖4所示的觸控裝置400,惟觸控裝置800的觸控面板80另包含一中介基板51位于遮蔽層12與顯示模塊18之間。
在本發明的實施例中,設置于攝像窗14內的第一抗反射層15有助于提高光通過攝像窗14的光穿透率,例如將原本約90±2%的光穿透率提升至約94±2%。此外,第一抗反射層15亦有助于提高影像提取元件185提取影像時的清晰度。又,第一抗反射層15因面積較小,僅需限制在攝像窗14的范圍內,有助于降低生產成本并提高生產良率。
本公開的技術內容及技術特點已揭示如上,然而本公開所屬技術領域中的技術人員應了解,在不背離所附權利要求所界定的本公開精神和范圍內,本公開的教示及揭示可作種種的替換及修飾。例如,上文揭示的許多元件可以不同的結構實施或以其它相同功能的結構予以取代,或者采用上述二種方式的組合。
此外,本案的權利范圍并不局限于上文揭示的特定實施例的裝置、元件或結構。本公開所屬技術領域中的技術人員應了解,基于本公開教示及揭示裝置、元件或結構,無論現在已存在或日后開發者,其與本案實施例揭示者以實質相同的方式執行實質相同的功能,而達到實質相同的結果,亦可使用于本公開。因此,以下的權利要求用以涵蓋此類裝置、元件或結構。

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