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用陰極濺射制作方向層的方法及其實施裝置.pdf

關 鍵 詞:
陰極 濺射 制作 方向 方法 及其 實施 裝置
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摘要
申請專利號:

CN201210088822.0

申請日:

2007.12.24

公開號:

CN102747330B

公開日:

2015.01.28

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||專利申請權的轉移IPC(主分類):C23C 14/34變更事項:申請人變更前權利人:OC歐瑞康巴爾斯公司變更后權利人:歐瑞康先進科技股份公司變更事項:地址變更前權利人:列支敦士登巴爾策斯變更后權利人:列支敦士登巴爾策斯登記生效日:20140731|||實質審查的生效IPC(主分類):C23C 14/34申請日:20071224|||公開
IPC分類號: C23C14/34; H01J37/34; G11B5/851 主分類號: C23C14/34
申請人: 歐瑞康先進科技股份公司
發明人: H·羅爾曼; H·弗里德利; J·韋查特; S·卡德萊克; M·杜布斯
地址: 列支敦士登巴爾策斯
優先權: 2007.01.02 US 60/883086
專利代理機構: 中國專利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 薛峰;楊國治
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201210088822.0

授權公告號:

102747330B|||||||||

法律狀態公告日:

2015.01.28|||2014.08.20|||2012.12.19|||2012.10.24

法律狀態類型:

授權|||專利申請權、專利權的轉移|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明涉及用陰極濺射制作方向層的方法及其實施裝置。具體地,提供了一種用陰極濺射在襯底的平面襯底表面上制作帶有恒定法向方向性的方向層的裝置,所述裝置具有真空腔,所述真空腔中放置有至少一個靶,而且所述真空腔包含有至少一個適于以如下方式來連接襯底的支架,即使得襯底表面面向所述至少一個靶的靶表面,而且在所述靶表面和所述支架之間設置至少一個準直儀,所述準直儀帶有基本平坦的板,這些基本平坦的板彼此平行并被對齊在與所述襯底表面正交的方向中,而且所述板的平均長度從所述準直儀的中心向外端減小。此外,本發明還提供了一種在平面襯底表面上涂覆磁性層的方法。

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