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將原子層沉積涂層涂覆到多孔非陶瓷基底上的方法.pdf

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原子 沉積 涂層 涂覆到 多孔 陶瓷 基底 方法
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摘要
申請專利號:

CN201080042180.X

申請日:

2010.09.15

公開號:

CN102575346B

公開日:

2015.01.28

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):C23C 16/455申請日:20100915|||公開
IPC分類號: C23C16/455; C23C16/00; H01L21/205; C23C16/54; C23C16/30; C23C16/06 主分類號: C23C16/455
申請人: 3M創新有限公司
發明人: 比爾·H·道奇
地址: 美國明尼蘇達州
優先權: 2009.09.22 US 61/244,713; 2009.09.22 US 61/244,696
專利代理機構: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 代理人: 張爽;樊衛民
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201080042180.X

授權公告號:

102575346B||||||

法律狀態公告日:

2015.01.28|||2012.09.12|||2012.07.11

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明公開了一種將保角涂層沉積在多孔非陶瓷基底上的方法,所述方法需要反應性氣體流動經過所述基底從而在其后留下保角涂層。所述方法可用于在所述基底的內孔上留下親水表面,即使當所述基底是天然疏水性的,例如烯屬的材料。所述方法可用于卷對卷法方法中,或用于批量方法中。在后一種情況的一些方便的實施例中,批量反應器和適形涂覆的基底或多個基底可一起成為最終產品的組件,所述組件例如分別為過濾器主體和過濾器元件。

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