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提高使用反射性材料的伸展應力襯墊的紫外線固化.pdf

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提高 使用 反射 材料 伸展 應力 襯墊 紫外線 固化
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摘要
申請專利號:

CN201110421372.8

申請日:

2011.12.13

公開號:

CN102569197B

公開日:

2015.01.07

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):H01L 21/8238申請日:20111213|||公開
IPC分類號: H01L21/8238; H01L27/092 主分類號: H01L21/8238
申請人: 格羅方德半導體公司
發明人: R·里克特; T·胡伊辛加
地址: 英國開曼群島
優先權: 2010.12.22 US 12/975,515
專利代理機構: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314 代理人: 程偉;王錦陽
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201110421372.8

授權公告號:

102569197B||||||

法律狀態公告日:

2015.01.07|||2012.09.12|||2012.07.11

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明涉及提高使用反射性材料的伸展應力襯墊的紫外線固化,提供一種制造半導體裝置的方法,其開始于在半導體晶圓上制作n-型金氧半導體(NMOS)晶體管結構。該方法繼續在該NMOS晶體管結構上方形成光學反射層、在該光學反射層上方形成伸展應力誘發材料層、以及通過施加紫外線照射以固化該伸展應力誘發材料層。一些該紫外線照射直接地照射該伸展應力誘發材料層,而一些該紫外線照射則通過從該光學反射層反射以照射該伸展應力誘發材料層。

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