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雙面凸紋浮雕型金屬薄片紀念章的制備方法.pdf

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雙面 浮雕 金屬 薄片 紀念章 制備 方法
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摘要
申請專利號:

CN200910200952.7

申請日:

20091225

公開號:

CN102106631B

公開日:

20140813

當前法律狀態:

有效性:

有效

法律詳情:
IPC分類號: A44C3/00,C21D9/46,B44C1/24,B24B1/00,B08B3/08 主分類號: A44C3/00,C21D9/46,B44C1/24,B24B1/00,B08B3/08
申請人: 上海造幣有限公司,中國印鈔造幣總公司
發明人: 劉耀光,李文軍,黃平,梁德奎
地址: 200061 上海市普陀區光復西路17號
優先權: CN200910200952A
專利代理機構: 上海世貿專利代理有限責任公司 代理人: 李浩東
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法律狀態
申請(專利)號:

CN200910200952.7

授權公告號:

法律狀態公告日:

法律狀態類型:

摘要

本發明公開了一種雙面凸紋浮雕型金屬薄片紀念章的制備方法。其特征在于:薄片坯餅的制作方法是采用坯餅一次落料→坯餅預成形→坯餅二次落料的生產工藝,其所制成的薄片坯餅是中間部分較厚,邊緣部分較薄的碟形狀坯餅,該種方法在薄片坯餅上預先形成了一定的金屬堆積量,有利于雙面凸紋薄片產品的壓印。薄片印花模具是采用不同圖紋的陰紋模具,模具表面具有鏡面及噴砂等表面處理效果,并對模具圖紋的布局及圖紋高度進行了適當限制。通過封閉式壓印的方法,制作出的產品為一種新型的雙面凸紋浮雕型的金屬薄片紀念章。

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本文標題:雙面凸紋浮雕型金屬薄片紀念章的制備方法.pdf
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