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用于電阻抗成像的水槽.pdf

關 鍵 詞:
用于 阻抗 成像 水槽
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摘要
申請專利號:

CN201020267906.7

申請日:

20100723

公開號:

CN201710358U

公開日:

20110119

當前法律狀態:

有效性:

失效

法律詳情:
IPC分類號: A61B5/053 主分類號: A61B5/053
申請人: 上海交通大學
發明人: 馬藝馨,李露,張曉妮,童倜
地址: 200240 上海市閔行區東川路800號
優先權: CN201020267906U
專利代理機構: 上海交達專利事務所 代理人: 王錫麟;王桂忠
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201020267906.7

授權公告號:

法律狀態公告日:

法律狀態類型:

摘要

一種電子成像技術領域的用于電阻抗成像的水槽,包括:底座、位于底座上的兩個電極圈、若干個層疊于電極圈之間的隔離圈和設置于相鄰的隔離圈之間以及隔離圈和電極圈之間的若干個法蘭,所述的法蘭上設有螺栓孔,電極圈和隔離圈之間以及若干相鄰的隔離圈之間由設置于螺栓孔上的螺栓固定連接。本裝置能夠實現調整電極陣列間距對測量的影響和改變電場的三維效應對測量的影響,又能很好識別電極安裝位置。

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本文標題:用于電阻抗成像的水槽.pdf
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